電子束蒸發(fā)制備TiO-,2-薄膜及光學性能的研究.pdf

1、該文用電子束反應蒸發(fā)法在K9玻璃上制備了TiO<,2>薄膜.用正交試驗法研究了制備過程中的主要工藝因素基片溫度、沉積速率、真空度對薄膜的主要光學常數(shù)折射率以及消光系數(shù)產(chǎn)生的影響.薄膜的折射率和消光系數(shù)用橢圓偏振儀測量并計算得到,用分光光度計測量了膜的透射率光譜曲線,薄膜的微觀形貌和結(jié)構由掃描電鏡以及X射線衍射儀進行了分析.通過極差法確定了在電子束反應蒸發(fā)的制備條件下得到最佳光學性能的TiO<,2>薄膜的工藝條件為:基片溫度300℃、真空

2、度2×l0<'-2>pa、沉積速率0.2nm/s,得出了基片溫度對TiO<,2>薄膜光學性能影響最大的結(jié)論.用最佳工藝條件制備的薄膜在可見光波段的范圍內(nèi)有很好的透光性,在掃描電鏡下觀察到薄膜的結(jié)構為柱狀纖維結(jié)構.該文研究了退火工藝對不同基片溫度下制備薄膜的結(jié)構以及光學常數(shù)的影響.對退火前后的薄膜進行了X射線衍射分析、透射光譜分析,表明退火可以使非晶態(tài)結(jié)構的TiO<,2>薄膜晶化并可以使折射率以及吸收情況得到較大的改善,確定了使薄膜的組織