MOCVD加熱系統(tǒng)研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、金屬有機物化學氣相沉積(MOCVD，Metal Organic Chemical Vapor Deposition) 是業(yè)界生產半導體光電器件和微波器件的關鍵設備。加熱系統(tǒng)是MOCVD系統(tǒng)的重要組成部分。每個新穎的反應室設計，都需要與之相匹配的加熱裝置和控制技術。本文分析了現有MOCVD設備的加熱系統(tǒng)，對紅外輻射加熱和高頻感應加熱進行了對比分析，探討了各自的加熱特點。 本文從基礎理論到實際應用，對紅外輻射加熱器和高頻感應加熱器的

2、應用、選材等進行了討論。采用數值模擬的方法對紅外輻射加熱器和高頻感應加熱器進行了結構優(yōu)化設計，并研究了其安裝精度要求。結果表明： 對紅外輻射加熱器 1）對絲狀紅外輻射加熱器而言，電阻絲布置的均勻性決定了石墨基座表面溫度分布的均勻性；有必要使石墨基座旋轉起來，這樣可使絲狀加熱均勻性提高20％； 2）對片狀紅外輻射加熱器而言，電阻片的形狀與石墨基座表面溫度均勻性密切相關；片狀加熱器安裝要求低于絲狀加熱器；

3、 3）紅外輻射加熱器與石墨基座的高平行度對石墨基座表面的溫度均勻性影響很大。 對高頻感應加熱器 1）通電導線的空間布置，特別是外圈導線的布置決定了加熱均勻性； 2）加熱均勻性很好，石墨基座表面溫度偏差只有0.3℃； 3）高頻感應加熱器的安裝要求比紅外輻射加熱器高，加熱器與基座之間必須保持高平行度。 為保證設備安全可靠運行，必須把高溫區(qū)域與外界隔絕起來?；贑FD技術，本文對MOCVD設備中幾

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