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1、目前,MEMS芯片的設(shè)計(jì)與制造技術(shù)已經(jīng)相當(dāng)成熟,但是,由于MEMS封裝技術(shù)的研究明顯滯后,使許多MEMS芯片沒有得到實(shí)際應(yīng)用,限制了MEMS的發(fā)展。在MEMS封裝技術(shù)中,MEMS真空封裝是一個(gè)需要重點(diǎn)研究的課題,因?yàn)榇蠖鄶?shù)的MEMS器件都需要真空封裝,這些器件內(nèi)部都具有可動(dòng)部件或者真空腔體,只有采用真空封裝,才能獲得較好的性能。而現(xiàn)在國(guó)內(nèi)外的真空封裝技術(shù)還很不成熟,存在成本高、可靠性不好等問題。因此,本文在真空封裝的理論、設(shè)備及工藝等方
2、面作了一些探討,具體內(nèi)容及創(chuàng)新點(diǎn)如下: 首先,應(yīng)用真空物理相關(guān)理論,分析了封裝腔體的真空度與氣體吸附和脫附、氣體通過小孔的流動(dòng)之間的關(guān)系;探討了器件級(jí)與圓片級(jí)真空封裝的基本工藝原理。 然后,自主研制了一種MEMS真空封裝工藝設(shè)備,該設(shè)備具有抽取真空、加熱及溫度控制、冷卻、對(duì)準(zhǔn)及力加載等功能,可以滿足若干真空封裝關(guān)鍵工藝的需求。 其次,從理論上分析了真空度對(duì)MEMS器件品質(zhì)因數(shù)的影響,以及對(duì)微陀螺儀進(jìn)行真空封裝的必
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