已閱讀1頁，還剩39頁未讀， 繼續(xù)免費閱讀
版權(quán)說明：本文檔由用戶提供并上傳，收益歸屬內(nèi)容提供方，若內(nèi)容存在侵權(quán)，請進行舉報或認領
文檔簡介
1、食用80﹪Ar稀釋的SiH4,O2,CHF3和CH4作為前驅(qū)氣體,利用微波電子回旋共振離子體化學氣相沉積(ECR-CVD)方法制備了氧化硅/氟化非晶碳膜/氧化硅(SiO<,x>/a-C:F/SiO<,x>)多層膜與單層的氟化非晶碳膜(a-C:F),并在N<,2>氛圍退火處理中考察其熱穩(wěn)定性.使用臺階儀測量退火前后膜厚的變化;用紫外可見分光光度計(UV-VIS)測量了膜的透光譜,并計算了其光學帶隙;用傅立葉變換紅外光譜儀(FTIR)和X射
2、線光電子能譜儀分析了薄膜的化學鍵和成分分布;使用低頻阻抗分析儀測量了薄膜的介電常數(shù).該文重點分析了SiO<,x>/a-C:F/SiO<,x>多層膜的結(jié)構(gòu)與成分,并與單層的a-C:F薄膜比較了退火前后結(jié)構(gòu)與介電性質(zhì)的不同.結(jié)果表明,多層膜主要由C-F,C=C,Si-O鍵構(gòu)成,由于器壁的歷史效應,薄膜中還存在少量Si-C和Si-F鍵;多層膜的光學帶隙經(jīng)計算約為2.7eV;多層膜的介電常數(shù)與包層SiO<,x>厚度有很大的關系,應盡可能減小Si
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明，都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等，如果需要附件，請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙，網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預覽，若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間，僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理，對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯，并不能對任何下載內(nèi)容負責。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當內(nèi)容，請與我們聯(lián)系，我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 純鋁-鋁合金基底上SiO-,x-陶瓷膜層的CVD制備及其性能研究.pdf
- 非晶SiO-,x-納米線的制備、修飾和加工.pdf
- SiO分子勢能函數(shù)和SiO-,x-(x=1，2)分子外電場效應.pdf
- SiO-,x-N-,y-和SiN-,x-薄膜的結(jié)構(gòu)和光致發(fā)光性質(zhì)研究.pdf
- 磁控濺射制備SiO-,x-非晶薄膜的沉積機制及薄膜結(jié)構(gòu)的研究.pdf
- 介孔SiO-,2-膜的制備及其性能研究.pdf
- C(膜)-Si(SiO-,2-)(納米微粒)-C(膜)夾層膜的結(jié)構(gòu)及其光致發(fā)光性質(zhì)研究.pdf
- 雙介孔SiO-,2-的制備及其表征.pdf
- 仿生合成SiO-,2-介孔分離膜的研究.pdf
- 納米SiC薄膜的發(fā)光與多孔SiO-,2-：F薄膜介電特性研究.pdf
- 多孔低k SiO-,2-：F薄膜的結(jié)構(gòu)和電學性質(zhì)研究.pdf
- 溶膠-凝膠法制備SiO-,2-膜的研究.pdf
- ECR-CVD制備a-SixN：H薄膜及其發(fā)光性能的研究.pdf
- 烷烴異構(gòu)化骨架型MoO-,x-—SiO-,2-催化劑的研究.pdf
- 超低介電常數(shù)材料納米多孔SiO-,2-和SiO-,2-：F薄膜的制備及其特性研究.pdf
- SiO-,2-凝膠-稀土摻雜SiO-,2-發(fā)光材料的制備與性能研究.pdf
- 磁性金屬-SiO-,2-核殼結(jié)構(gòu)的制備及性質(zhì)研究.pdf
- 超低介電常數(shù)材料納米多孔SiO-,2-和SiO-,2-：F薄膜的制備及其物性研究.pdf
- Ti-Al和Ti-SiO-,2--Al-SiO-,2-軟X射線光學多層膜的結(jié)構(gòu)與熱穩(wěn)定性研究.pdf
- 仿生合成法制備SiO-,2-膜的研究.pdf
評論
0/150
提交評論