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文檔簡介
1、在微電子光刻工藝中,光源的穩(wěn)定性直接影響著基片的曝光量,隨著集成電路和各類微電子元器件集成度的不斷提高,對光源的穩(wěn)定度提出了更高的要求。研制高性能的恒功率超高壓汞燈電源,可以有效提高光強穩(wěn)定度,實現(xiàn)曝光量的精確控制。本課題源自中國電子科技集團公司第四十五研究所承擔(dān)的縱向課題特種器件雙面曝光機的一項關(guān)鍵技術(shù):恒功率超高壓汞燈電源的研制。 本文分析了超高壓汞燈的電氣特性以及對電源的特殊要求,提出用模擬乘法器將電壓、電流信號轉(zhuǎn)變?yōu)楣β?/p>
2、信號,通過脈寬控制(PwM)技術(shù)實現(xiàn)汞燈恒功率控制的總體方案。 進(jìn)行恒功率汞燈電源的設(shè)計,將模擬乘法器、電流滯洄比較器應(yīng)用于脈寬控制電路,實現(xiàn)了對汞燈的恒功率控制和啟動電流的限制。 對電源系統(tǒng)進(jìn)行可靠性設(shè)計,提出了提高功率穩(wěn)定精度和系統(tǒng)可靠性的具體措施,保證了電源系統(tǒng)的功率穩(wěn)定度和可靠性。 對電源系統(tǒng)進(jìn)行測試分析,驗證了設(shè)計思想和技術(shù)指標(biāo);測試結(jié)果表明,技術(shù)指標(biāo)完全達(dá)到了設(shè)計要求。 本課題研制的特種器件雙
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