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文檔簡介
1、該論文立足于液體噴射拋光技術(shù)的基礎(chǔ)研究,首先從流體力學(xué)出發(fā),利用復(fù)位勢平面理論,討論了液體噴射拋光技術(shù)拋光液與工件相互作用時拋光液的運動情況,分析了磨料粒子與工件表面碰撞瞬間及碰撞后的相互作用力,得到了磨料粒子與工件表面間存在著以高斯形式分布的沖擊作用和以拋光中心為圓心沿徑向的橫向剪切作用,為研究材料去除機(jī)理建立了堅實的理論基礎(chǔ).隨后從實驗出發(fā),研究了液體噴射拋光技術(shù)的拋光區(qū)形狀特征及材料去除機(jī)理,得到垂直噴射時在拋光區(qū)內(nèi)材料去除量呈W
2、形的環(huán)狀結(jié)構(gòu)分布的現(xiàn)象,并運用理論予以詳細(xì)解釋,提出了磨料粒子的碰撞剪切作用對材料的去除占主導(dǎo)而直接沖擊作用則居于次要地位的結(jié)論.該文還研究了液體噴射拋光技術(shù)射流壓力、噴射距離、噴射角、作用時間等對材料去除量的影響,給出了各工藝參數(shù)與材料去除量的關(guān)系曲線圖,揭示了它們對材料去除量的影響規(guī)律,并給出液體噴射拋光技術(shù)噴射距離與噴射角的最佳參數(shù).最后,從光學(xué)元件的表面粗糙度著手,研究了液體噴射拋光技術(shù)磨料粒子的粒度對光學(xué)元件表面粗糙度的影響,
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