錐形束CT對上頜后牙區(qū)微種植體支抗植入安全區(qū)的測量研究.pdf

1、目的:利用錐形束CT(CBCT)測量上頜雙側(cè)后牙區(qū)相鄰兩牙牙根之間的近遠(yuǎn)中距離，以及上頜竇最低點(diǎn)與水平面的垂直距離，結(jié)合正畸石膏模型中的上頜雙側(cè)后牙牙冠高度的測量值以及口內(nèi)上頜雙側(cè)后牙相應(yīng)附著齦寬度的測量值進(jìn)行綜合分析，最終確定上頜后牙區(qū)正畸微種植體支抗植入的安全區(qū)，以期為正畸醫(yī)師的臨床操作提供參考。
　　方法:選擇2012年1月至2012年12月期間于沈陽軍區(qū)總醫(yī)院口腔門診正畸診室就診符合研究條件的正畸前患者病例資料21例，其中

2、男性患者病歷資料8例，女性患者病例資料13例，年齡范圍為15-30歲，平均年齡為(19.5±4.6)歲。使用德國卡瓦公司生產(chǎn)的由掃描儀和計(jì)算機(jī)工作站組成KaVo3D exam Vision成像系統(tǒng)來獲取患者頭頸部的錐束容積斷層圖像并進(jìn)行數(shù)據(jù)重建，重建結(jié)果以DICOM3.0的格式輸出并進(jìn)行保存。口腔頜面部錐形束CT重建后的數(shù)據(jù)使用InvivoDental5.0三維頭影測量分析軟件以三維影像的形式呈現(xiàn)，在Invivo Dental5.0軟件

3、的Scetion窗口中確定測量的水平面、矢狀面以及冠狀面，然后使用軟件自帶的測量功能分別測量上頜左右兩側(cè)后牙區(qū)相鄰兩牙牙根在距水平面6、8、10、12、14、16mm處的近遠(yuǎn)距離，以及上頜竇最低點(diǎn)與水平面的垂直距離。同時，在患者口外使用游標(biāo)卡尺測量患者正畸前上頜牙列石膏模型中的上頜后牙牙冠高度;在患者口內(nèi)使用牙周探針以牙體長軸為標(biāo)準(zhǔn)，分別測量游離齦的寬度以及齦緣至膜齦聯(lián)合的寬度，并最終得出患者附著齦的寬度。綜合分析測量所得的數(shù)據(jù)及上述各

4、解剖結(jié)構(gòu)之間的關(guān)系，最終得出上頜后牙區(qū)正畸微種植體支抗植入的安全區(qū)。
　　結(jié)果:1.上頜后牙區(qū)相鄰兩牙牙根近遠(yuǎn)中距離的測量結(jié)果顯示上頜第二前磨牙和第一磨牙近中頰根之間的近遠(yuǎn)中距離最大，上頜第一前磨牙和上頜第二前磨牙牙根之間的近遠(yuǎn)中距離次之，而上頜第一磨牙遠(yuǎn)中頰根與上頜第二磨牙近中頰根之間的近遠(yuǎn)中距離變異較大。2.上頜竇底與水平面的距離從前磨牙至磨牙逐漸降低，在上頜第二磨牙區(qū)上頜竇底的位置與水平面距離最低。3.上頜后牙牙冠高度測量結(jié)

5、果顯示由上頜第一前磨牙至上頜第二磨牙牙冠高度依次減小，上頜第一前磨牙的牙冠高度最大。4.最終得出的上頜后牙區(qū)附著齦寬度結(jié)果顯示由附著齦寬度由上頜第一前磨牙至上頜第二磨牙依次增大，上頜第二磨牙區(qū)的附著齦寬度最大。
　　結(jié)論:上頜后牙區(qū)正畸微種植體支抗植入的安全區(qū)位于上頜第二前磨牙與上頜第一磨牙之間，距上頜第二前磨牙頰尖與上頜第一磨牙近中頰尖連線所確定水平面的垂直高度為10-11mm，過上頜第二前磨牙與上頜第一磨牙鄰接點(diǎn)的切線偏遠(yuǎn)中并