種植體支抗上頜后牙頰側(cè)植入?yún)^(qū)CBCT的綜合評價.pdf

1、目的:
　　以CBCT評估上頜后牙頰側(cè)種植體支抗植入?yún)^(qū)的解剖特點，為臨床種植釘?shù)闹踩胩峁﹨⒖迹岣咧踩氲陌踩院头€(wěn)定性。
　　方法:
　　研究樣本分兒童組和成人組兩組，各21名患者，進行CBCT掃描，選取距上頜第一磨牙遠中頰側(cè)釉牙骨質(zhì)界(CEJ)4mm和7mm兩個截面作為參考平面，對上頜左右側(cè)5-6根間和6-7根間的皮質(zhì)骨厚度密度、松質(zhì)骨密度、根間最短距離、皮質(zhì)骨距根間最窄處距離和以30°植入后植入點距上頜竇底距離進行

2、測定并進行配對t檢驗。
　　結(jié)果:
　　隨著年齡增長，上頜第一磨牙頰側(cè)從近中向遠中皮質(zhì)骨厚度和骨密度均增大，差異顯著;近中根間距離大于遠中，差異顯著;皮質(zhì)骨距根間最窄處距離平均值大于5mm;以30°植入后植入點距上頜竇底距離平均達到8mm。
　　結(jié)論:
　　為使種植釘植入更安全穩(wěn)定，避免誤傷根部和誤穿上頜竇，建議選擇上頜第一磨牙遠中或者近中，直徑1.3mm～2.0mm，螺紋長度6mm的種植釘，盡量以與骨面成30°