摻氫非晶硅對(duì)高功率半導(dǎo)體激光器腔面鈍化的研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、隨著科技的發(fā)展,社會(huì)對(duì)高功率半導(dǎo)體激光器的需求越來越大,但是當(dāng)激光器輸出腔面的光功率密度超過6-15MW/cm2時(shí),激光器很可能會(huì)發(fā)生災(zāi)變,從而嚴(yán)重的限制了激光器的功率輸出,制約了高功率半導(dǎo)體激光器的應(yīng)用。 本研究為提高激光器的光學(xué)災(zāi)變(COD)閾值,進(jìn)而提高輸出功率,采用了腔面鍍膜的鈍化方法。從薄膜光學(xué)原理出發(fā),選用a-Si:H和SiO2作為鍍膜材料,進(jìn)行了膜系設(shè)計(jì),利用磁控濺射鍍膜機(jī),通過測試和理論分析,找到了最佳工藝條件,

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