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1、一11I大學(xué)碩士學(xué)位論文題目墜叢墜用量熟芏盎型盛焦煎盎作者』蛆生完成日期2QQ』5盆墊目培養(yǎng)單位墮刪盤生塹堡堂墮指導(dǎo)教師掛超萱整蕉專業(yè)盤生研究方向是塾焦芏絲墨授予學(xué)位日期2Q籩年—一月——日s‘udyonImagingaDDMigitD鵲≯1m。礦aphy』VMajor：OpticsGraduate：LiuChiSupervisor：DuJingleiThegreatdemandsforthemicrodeviceswithmicrom

2、ation，lightweightandintegrationhavevastlypromptedt11edevelopmentofthemicrofabricationtechnologiesininformationeraTheMEMSandMOEMStechniquesoftherapiddevelopmentbasedonmicrooptics，microelectronicsandmicromechanicshaveindic

3、atedanexpansivefuture，whichareappliedintheaviationandspaceflight，opticalcommunication，opticalinterconnectednetwork，opticalcomputingandothermanyhightechniquefields，andwillalsohaveafar—reachingimpactonthemilitaryscienceand

4、technologies，industryandthelivingofthepeoplewhichWeconfrontinthecurrentcenturyTheconventionalphotolithographictechnologyfromVLSItechniqueexistsinlargelimitationsforthefabricationofmicroopticalMEMSandMOEMSelementswiththre

5、e—dimensionf3D1continuousstructureIn山isthesis，thestudyonlithographytechniquewithDMDdigitalmaskforthefabricationof3DarbitrarilyshapedmicrostructureshasbeencarriedoutThesystemofDMDdigitalmaskslithographyisproposedandsetupt

6、hroughtheSUfficientinvestigationAccordingtOthecharacteristicsofperiodicmicrostructureofDMDwepresentapartialcoherentimagingmodelofdigitalmasklithography，wbhadstudiedonDMDgrayscalewhichisachievedbybinarypulsewidthmodulatio

7、noftheincidentlightBecauseeachmicromirrorstmctareofDMDistheSalTleitisonlyneedtogivetheimagingprocessofasinglemicromirrorInthisanalysis，objectlightsourceiSregardedascombinationofmanyincoherentlightsource(singlemirronwhile

8、eachmirrorisilluminatedbyacoherentlightsource，thatis，theimagingprocessisaprocessofusingpartialcoherentlightAtlast，thesimulationshavebeenmadebasedonthepartialcoherentimagingmodel，andthemicro—opticalelementssuchaSthemicro1

9、enshavebeenachievedonSHSGthroughtheapplicationsofDMDdigitalmaskandenzymeetchingtechniqueWhentheDMDdigitalmaskiSusedintheconventionalphotolithography，whichisgreatlysimplifiedBecausethemaskdesigncanbeadjustedinrealtime，iti

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