基于多像素掃描調(diào)制的數(shù)字光刻方法研究.pdf

1、近年來，無掩模數(shù)字光刻技術(shù)在微電子及相關(guān)領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用，以低成本、便捷、靈活性高等特點(diǎn)，成為光刻業(yè)界研究的熱點(diǎn)。但是在微光學(xué)器件制作生產(chǎn)過程中，常常會(huì)出現(xiàn)光刻圖形邊緣模糊、工件結(jié)構(gòu)不規(guī)整、成像質(zhì)量差等問題。在此背景下，本論文結(jié)合DMD（Digital Mirror Device）無掩模光刻系統(tǒng)的優(yōu)勢(shì)和理論特性，提出了一種基于多像素掃描調(diào)制的數(shù)字光刻方法，從理論和實(shí)驗(yàn)進(jìn)行研究探索，用以改善數(shù)字光刻成像質(zhì)量。主要研究內(nèi)容包括：
　　

2、1、通過對(duì)多像素掃描調(diào)制移動(dòng)光刻技術(shù)的理論研究，分析得出掃描步長、掃描步數(shù)及相對(duì)傾斜角θ與子像素陣列之間的映射關(guān)系。接下來應(yīng)用計(jì)算機(jī)仿真開展的驗(yàn)證性實(shí)驗(yàn)也證明了多像素掃描調(diào)制移動(dòng)光刻技術(shù)在改善成像質(zhì)量上的可行性，同時(shí)根據(jù)對(duì)均方根誤差分析得出掃描步數(shù)和相對(duì)傾斜角θ對(duì)成像質(zhì)量存在影響。
　　2、結(jié)合多像素掃描調(diào)制移動(dòng)光刻技術(shù)的理論研究，提出了一種利用多像素掃描調(diào)制移動(dòng)光刻技術(shù)制作任意3D微結(jié)構(gòu)的新方法，為簡(jiǎn)捷、快速地制作微結(jié)構(gòu)器件提供

3、了一種新思路。通過理論分析及公式推導(dǎo)得出目標(biāo)劑量分布和累積劑量分布的數(shù)學(xué)表達(dá)式，以微透鏡數(shù)字掩模設(shè)計(jì)為例，分別討論了數(shù)字掩模設(shè)計(jì)、曝光區(qū)域優(yōu)化及圖形邊緣優(yōu)化處理的方法。多像素掃描調(diào)制數(shù)字光刻方法能夠克服諸多缺點(diǎn)，如制作工藝繁瑣、設(shè)計(jì)靈活性小、穩(wěn)定性差等，并且能夠很好的規(guī)避多次掃描曝光中周期長及臺(tái)階問題對(duì)3D微結(jié)構(gòu)面形的影響。
　　3、簡(jiǎn)單介紹了多像素掃描調(diào)制系統(tǒng)中的一些重要組成部分，以及對(duì)光刻工藝步驟進(jìn)行了簡(jiǎn)要說明，同時(shí)開展了單張