數(shù)字灰度光刻成像物鏡設(shè)計(jì).pdf

1、隨著微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、微光機(jī)電系統(tǒng)(MOEMS)等具有表面浮雕微結(jié)構(gòu)的微納器件的發(fā)展，尋求制作工藝簡(jiǎn)單、工作效率高、成本低、能產(chǎn)生連續(xù)三維面形的新的加工技術(shù)是現(xiàn)在微納加工技術(shù)的發(fā)展方向之一。 現(xiàn)有的表面浮雕微結(jié)構(gòu)的加工方法主要有二元套刻法、直寫(xiě)法、移動(dòng)掩模法、熱融法、灰階掩模法等。各種方法各有優(yōu)缺點(diǎn)，如二元套刻法工藝復(fù)雜且難以產(chǎn)生連續(xù)面形，直寫(xiě)法雖精度高但效率太低，灰階掩模的制作成本又較高。數(shù)字灰度光刻技術(shù)是一種將灰度掩模

2、和數(shù)字光處理技術(shù)結(jié)合，而發(fā)展出來(lái)的一種具有效率高、成本低、加工工藝簡(jiǎn)單等優(yōu)點(diǎn)的微納加工技術(shù)，它可以通過(guò)一次曝光加工出連續(xù)三維面形的浮雕微結(jié)構(gòu)，在MEMS和微光學(xué)元件加工中有很好應(yīng)用前景。 數(shù)字灰度光刻投影成像物鏡是保證其圖像轉(zhuǎn)移質(zhì)量的重要部件之一。由于微電子加工的需要，傳統(tǒng)的投影光刻物鏡的視場(chǎng)較大，且系統(tǒng)是為透射式掩模而設(shè)計(jì)的，成像系統(tǒng)的前工作距離較小，因此其無(wú)法直接移植到數(shù)字灰度光刻系統(tǒng)中。數(shù)字微反鏡(DMD)是可方便地用于灰

3、度光刻系統(tǒng)的一種光反射式圖形發(fā)生器件，如果數(shù)字成像系統(tǒng)有過(guò)大的物鏡口徑和較小的前工作距離會(huì)使得光路安排非常困難。另外，為減少數(shù)字灰度光刻系統(tǒng)的成本，用于MOEMS制作的數(shù)字灰度光刻機(jī)無(wú)須像傳統(tǒng)光刻那樣對(duì)物鏡的加工和裝調(diào)精度提過(guò)高的要求，因此，有必要設(shè)計(jì)一種能適合DMD工作方式，并能夠消除DMD柵格效應(yīng)且加工制作成本較低的光刻物鏡。 本文深入研究影響數(shù)字灰度曝光像質(zhì)的各種因素，選擇合理的成像系統(tǒng)結(jié)構(gòu)和參數(shù)，基于光學(xué)設(shè)計(jì)的高級(jí)像差理

4、論分析像差產(chǎn)生原因，給出了光刻物鏡的像差容限，并尋找校正和分配系統(tǒng)像差的有效方法。在光學(xué)設(shè)計(jì)軟件的輔助下，設(shè)計(jì)出的鏡頭組鏡片數(shù)量少，光學(xué)加工、光學(xué)校裝公差要求低，可滿足高質(zhì)量、低成本、快速加工的數(shù)字灰度光刻系統(tǒng)對(duì)光刻物鏡的需要。我們還搭建了簡(jiǎn)易成像光路進(jìn)行數(shù)字灰度光刻實(shí)驗(yàn)，分析影響數(shù)字灰度光刻成像質(zhì)量的一些因素和物鏡設(shè)計(jì)方案的可行性。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，新光刻物鏡的設(shè)計(jì)思想能有效的消除DMD成像過(guò)程中的柵格效應(yīng)，兼顧了人們對(duì)系統(tǒng)分辨率與工作效