光刻機(jī)掩模臺(tái)系統(tǒng)的動(dòng)力學(xué)分析.pdf

1、以步進(jìn)掃描光刻機(jī)為代表的集成電路制造設(shè)備是光、機(jī)、電一體化的高精尖產(chǎn)品，其設(shè)計(jì)和制造集中體現(xiàn)了相關(guān)學(xué)科中最高水平的研究成果。掩模臺(tái)是光刻機(jī)的關(guān)鍵分系統(tǒng)，其定位精度及其與工件臺(tái)的同步運(yùn)動(dòng)精度決定了光刻機(jī)的系統(tǒng)精度，并最終決定了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的光刻特征線(xiàn)寬。掩模臺(tái)分系統(tǒng)零部件眾多，連接關(guān)系復(fù)雜，系統(tǒng)任何微小的擾動(dòng)都會(huì)對(duì)光刻質(zhì)量產(chǎn)生影響，因而建立其精確動(dòng)力學(xué)模型、分析它的動(dòng)力學(xué)特性具有重要意義。
　　 本文用線(xiàn)性彈簧-阻尼力等效剛體之

2、間的柔性連接，結(jié)合有限元分析的結(jié)果對(duì)掩模臺(tái)分系統(tǒng)進(jìn)行簡(jiǎn)化，建立了掩模臺(tái)分系統(tǒng)的SimMechanics模型。采用振動(dòng)試驗(yàn)和有限元分析相結(jié)合的方法，獲得了掩模臺(tái)分系統(tǒng)的動(dòng)力學(xué)參數(shù)，得到了掩模臺(tái)分系統(tǒng)比較精確的動(dòng)力學(xué)模型。用拉格朗日方法推導(dǎo)出多剛體系統(tǒng)動(dòng)力學(xué)方程，并以推導(dǎo)出的多剛體系統(tǒng)動(dòng)力學(xué)方程為基礎(chǔ)，在Matlab 環(huán)境下開(kāi)發(fā)出了振動(dòng)分析模塊。利用開(kāi)發(fā)出的振動(dòng)分析模塊，對(duì)掩模臺(tái)分系統(tǒng)進(jìn)行了振動(dòng)特性分析，獲得了掩模臺(tái)分系統(tǒng)中主要部件的振動(dòng)特