光刻機掩模臺系統(tǒng)的動力學分析.pdf

1、以步進掃描光刻機為代表的集成電路制造設備是光、機、電一體化的高精尖產(chǎn)品，其設計和制造集中體現(xiàn)了相關學科中最高水平的研究成果。掩模臺是光刻機的關鍵分系統(tǒng)，其定位精度及其與工件臺的同步運動精度決定了光刻機的系統(tǒng)精度，并最終決定了光刻機所能實現(xiàn)的光刻特征線寬。掩模臺分系統(tǒng)零部件眾多，連接關系復雜，系統(tǒng)任何微小的擾動都會對光刻質(zhì)量產(chǎn)生影響，因而建立其精確動力學模型、分析它的動力學特性具有重要意義。
　　 本文用線性彈簧-阻尼力等效剛體之

2、間的柔性連接，結合有限元分析的結果對掩模臺分系統(tǒng)進行簡化，建立了掩模臺分系統(tǒng)的SimMechanics模型。采用振動試驗和有限元分析相結合的方法，獲得了掩模臺分系統(tǒng)的動力學參數(shù)，得到了掩模臺分系統(tǒng)比較精確的動力學模型。用拉格朗日方法推導出多剛體系統(tǒng)動力學方程，并以推導出的多剛體系統(tǒng)動力學方程為基礎，在Matlab 環(huán)境下開發(fā)出了振動分析模塊。利用開發(fā)出的振動分析模塊，對掩模臺分系統(tǒng)進行了振動特性分析，獲得了掩模臺分系統(tǒng)中主要部件的振動特