應(yīng)用于OPC的多邊形匹配比較研究.pdf_第1頁(yè)
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1、隨著集成電路的工藝發(fā)展到超深亞微米階段,集成電路的復(fù)雜度越來(lái)越高,特征尺寸也變的越來(lái)越小。當(dāng)集成電路的特征尺寸接近光刻機(jī)曝光的系統(tǒng)極限,即特征尺寸接近或小于光刻光源時(shí),硅片上制造出的版圖會(huì)出現(xiàn)明顯的畸變。我們把這種現(xiàn)象稱(chēng)為光學(xué)鄰近效應(yīng)(OPE-Optical Proximity Effect)。為了應(yīng)對(duì)光學(xué)鄰近效應(yīng),工業(yè)界提出了分辨率增強(qiáng)技術(shù)(RET-Resolution Enhancement Technology),減小設(shè)計(jì)版圖與制

2、造版圖之間的誤差。在光刻分辨率增強(qiáng)技術(shù)中,光學(xué)鄰近校正(OPC-Optical Proximity Correction)已成為最重要的技術(shù)。 光學(xué)鄰近校正不是一個(gè)一次就能得到精確結(jié)果的過(guò)程,它是一個(gè)不斷迭代的過(guò)程,需要多次驗(yàn)證修改。于是對(duì)已經(jīng)做過(guò)OPC的版圖(post-OPC版圖)驗(yàn)證后的修正就逐漸成為提高OPC質(zhì)量的必需步驟。傳統(tǒng)的Post-OPC版圖的修正需要對(duì)整個(gè)版圖重做OPC,這樣浪費(fèi)了前次OPC的結(jié)果,而且可能會(huì)引入

3、新的錯(cuò)誤。于是業(yè)界提出了一種局部修正的辦法——OPC平滑校正技術(shù),充分利用前次OPC的結(jié)果,對(duì)出錯(cuò)點(diǎn)進(jìn)行局部修正,以提高效率。 本文研究的對(duì)象是原始版圖(pre-OPC版圖)和post-OPC版圖中的圖形。對(duì)版圖中最基本的單元進(jìn)行分析處理,力求得到能夠優(yōu)化OPC的算法。本文提出了一種用于post-OPC版圖修正的多邊形匹配比較的線性算法。算法通過(guò)比較pre-OPC和post-OPC的版圖,提取OPC校正時(shí)的分段信息和段偏移量,使

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