穩(wěn)恒磁場下Ni-W合金電沉積的研究.pdf

1、電磁場應(yīng)用于材料制備領(lǐng)域，已成為材料科學(xué)和材料制備領(lǐng)域重要的研究方向，也日益成為世界各國研究的熱點(diǎn)。電磁場具有許多其它材料加工手段所無法比擬的優(yōu)點(diǎn)，它能量密度高、易控制，可傳遞熱能和動能給材料而不對材料造成污染。因而，電磁場提供了一種非常清潔和新穎的材料加工手段。將電磁場應(yīng)用于電沉積過程就得到一種鍍膜材料的制備方法。本文研究了電磁場對Ni-W合金電沉積的影響。Ni-W合金鍍層具有較高的耐蝕性、耐磨性、硬度和熱穩(wěn)定性，有著廣泛的應(yīng)用前景。

2、將穩(wěn)恒磁場施加于電鍍Ni-W合金過程進(jìn)行研究具有一定的理論和現(xiàn)實(shí)意義。 通過施加0-1T的穩(wěn)恒磁場，研究了Ni-W合金在純銅和A3鋼基體上沉積的電流效率、沉積速率及鍍層的耐蝕性、合金組成、顯微硬度、孔隙率；用掃描電鏡、金相顯微鏡對鍍層的微觀形貌進(jìn)行了觀察；對鍍層進(jìn)行了X射線衍射分析。對實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)及結(jié)果進(jìn)行了分析討論，找出了穩(wěn)恒磁場對這些性能指標(biāo)的影響規(guī)律。 實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明：與不施加磁場相比，施加磁場后鍍層的表面更細(xì)致、平整；