激光干涉光刻技術(shù).pdf

1、該論文基于光的干涉和衍射及光學(xué)全息照相理論,綜合評(píng)述了光學(xué)光刻的基本原理、主要類型、發(fā)展趨勢(shì)及開展激光無掩模干涉光刻和全息光刻研究的目的和意義.深入研究了無掩模激光干涉光刻技術(shù)用于高分辨、大視場(chǎng)、深亞微米和納米圖形生成的基本原理、理論、主要類型和實(shí)現(xiàn)方法.建立了多光束、多曝光技術(shù),包括雙光束單曝光、雙光束雙曝光、三光束單曝光、三光束雙曝光、四光束和五光束干涉的數(shù)學(xué)物理模型,編制了模擬軟件并進(jìn)行了大量的計(jì)算模擬研究,得到很多有用的結(jié)果.建

2、立了無掩模多光束多曝光干涉光刻實(shí)驗(yàn)系統(tǒng),提出了一種采用梯形棱鏡進(jìn)行波前分割和利用可選擇光闌進(jìn)行多種多光束多曝光干涉光刻研究的實(shí)驗(yàn)系統(tǒng),進(jìn)行了干涉光刻實(shí)驗(yàn)研究,對(duì)模擬和實(shí)驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行了分析.對(duì)影響干涉光刻結(jié)果的主要因素作了深入的分析,研究了提高干涉圖形對(duì)比度和周期穩(wěn)定性的方法.對(duì)全息光刻的原理、理論、實(shí)現(xiàn)方法及傳統(tǒng)光掩模—全息掩?！刮g劑圖形傳遞機(jī)理進(jìn)行了深入的研究,設(shè)計(jì)和建立了采用直角棱鏡和折射率匹配液的全內(nèi)反射波前共軛全息光刻實(shí)驗(yàn)系統(tǒng),

3、進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)研究.理論研究、計(jì)算模擬和實(shí)驗(yàn)結(jié)果分析表明,無掩模激光干涉光刻和全息光刻具有大視場(chǎng)、高分辨率、無畸變、系統(tǒng)相對(duì)簡(jiǎn)單、成本較低,實(shí)現(xiàn)方便等特點(diǎn),具有廣闊的應(yīng)用前景.故該文還著重研究了干涉光刻技術(shù)的一些主要應(yīng)用.在微電子、光電子器件、大屏幕平板顯示器、場(chǎng)發(fā)射器陣列、表面聲波器件、光子晶體、光波導(dǎo)陣列、全息透鏡和微光學(xué)元件陣列、微結(jié)構(gòu)制造、高分辨、大面積光柵和網(wǎng)格制造,在抗蝕劑性能測(cè)試、面形測(cè)量和計(jì)量等領(lǐng)域,干涉光刻技術(shù)都具有廣闊的