10261.光波在單軸晶體界面上折射和反射的研究

1、分類號(hào)：密級(jí)：學(xué)校代碼：10165學(xué)號(hào)：201311000805遣掌師蔻大學(xué)碩士學(xué)位論文④光波在單軸晶體界面上折射和反射的研究作者姓名：學(xué)科、專業(yè)i研究方向：導(dǎo)師姓名：吳晶光學(xué)光電器件及應(yīng)用宋哲副教授2016年O3月遼寧師范大學(xué)碩士學(xué)位論文摘要隨著光學(xué)儀器的不斷改進(jìn)與發(fā)展，晶體材料由于其獨(dú)特的電、光、熱、磁、力效應(yīng)被越來越廣泛的應(yīng)用在各種光學(xué)器件中。光波在晶體中如何傳播、在晶體界面上發(fā)生反射和折射時(shí)振幅、相位、能量如何變化，是用晶體設(shè)計(jì)

2、光學(xué)器件時(shí)必須要考慮的。因此，本文在分析晶體雙反射和雙折射現(xiàn)象的基礎(chǔ)上，重點(diǎn)討論光波在單軸晶體界面上的反射和折射。具體工作如下：1、研究了非常光和尋常光分別由單軸晶體入射到光學(xué)均質(zhì)體中時(shí)，界面上的菲涅耳反射。借助幾何作圖法找到了折射、反射光波和折射、反射光線的位置，利用電磁場邊界條件得到了透射系數(shù)、反射系數(shù)及透射率、反射率，模擬分析了反射光和折射光相對于入射光的振幅、相位和能量變化關(guān)系。通過模擬圖像可知，光軸取向改變對反射系數(shù)影響較大，

3、對透射系數(shù)影響較小。e光入射時(shí)，透射光和反射。光都有兀的相位變化，反射e光在甲角較小或∞角較小時(shí)有相位突變，在甲角較大或∞角較大時(shí)有冗的相位變化。隨著∞角和Q角的增大，e光與。光能量比逐漸減小。o光入射時(shí)，反射。光有0到兀的相位突變，反射e光有7c到0的相位突變。隨著03角的增大，e光與0光能量比逐漸減小，隨著《p角的增大，e光與0光的能量比逐漸增大。2、研究了光軸在入射面內(nèi)時(shí)非常光和尋常光在兩單軸晶體分界面上的菲涅耳反射。借助幾何作圖

4、法得到了折射、反射光波和折射、反射光線的位置，利用電磁場的邊界條件得到了透射系數(shù)、反射系數(shù)及透射率、反射率，模擬分析了反射光和折射光相對于入射光的振幅、相位和能量變化關(guān)系。通過模擬圖像可知，∞角和Q角改變對反射系數(shù)和透射系數(shù)影響不大。e光入射時(shí)，透射光相位不變，反射光相位從光疏到光密時(shí)有由0到Ⅱ的突變，從光密到光疏有冗到0的相位突變。0光入射時(shí)，透射光相位不變，反射光相位從光疏到光密時(shí)有兀的變化，從光密到光疏時(shí)相位不變。兩塊晶體光軸取向