分子篩負(fù)載摻雜型氧化鈦催化劑制備與性能研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、納米 TiO2光催化劑因其具有化學(xué)穩(wěn)定性好、無污染、較高的比表面積以及較高的光催化活性等優(yōu)點,受到廣泛關(guān)注。但是TiO2存在禁帶較寬(3.2 eV),光響應(yīng)范圍窄,光量子效率低,懸浮態(tài)的TiO2易凝聚、分離回收困難等問題,極大的限制了其在實際中的應(yīng)用。
  針對以上存在的問題,本文擬通過單一金屬離子摻雜和兩種金屬離子共摻雜以及負(fù)載的方法對TiO2進行優(yōu)化改性,以提高TiO2的光催化效率及回收重復(fù)利用率。并利用XRD、SEM、FT-

2、IR、XPS、UV-Vis DRS以及N2吸附-脫附等手段對復(fù)合光催化劑進行表征,同時以甲基橙為目標(biāo)降解物考察不同制備條件對光催化活性的影響。本實驗主要分為以下三個部分:
  1.采用溶膠-凝膠法制備x%In-0.1%Gd-TiO2復(fù)合光催化劑。結(jié)果表明,所制備的催化劑在不同 In摻雜濃度和煅燒溫度下均為銳鈦礦相,Gd3+、In3+以取代 Ti4+的方式進入TiO2晶格中,使晶格發(fā)生畸變,膨脹,導(dǎo)致晶格參數(shù)變大。適量的摻雜抑制了

3、TiO2晶粒的生長,使催化劑平均孔徑減小,比表面積增大,3%In-0.1%Gd-TiO2催化劑的比表面積最大,為122.7 m2/g。同時,摻雜使TiO2吸收邊帶發(fā)生紅移,帶隙減小。隨著煅燒溫度的升高,TiO2晶粒不斷增大,比表面積逐漸減小。當(dāng)煅燒溫度為400 oC時3%In-0.1%Gd-TiO2的光催化活性最好,達63%。光照60 min后,3%In-0.1%Gd-TiO2對甲基橙的降解率達到90%,而0.1%Gd-TiO2對甲基橙

4、的降解率只有70%。本實驗催化劑的最佳投入量為200 mg/L。
  2.采用溶膠-凝膠法合成x%In-0.05%Sm-TiO2復(fù)合材料。結(jié)果表明,在不同In摻雜量和煅燒溫度下所制備的樣品均為銳鈦礦相,適量共摻雜抑制了二氧化鈦晶粒的生長,使晶粒尺寸減小,TiO2吸收邊界紅移,表面羥基數(shù)量增加。摻雜增加了催化劑的比表面積,5%In-0.05%Sm-TiO2催化劑的比表面積最大,為113.1 m2/g。隨著煅燒溫度的升高,樣品晶粒逐漸

5、增大,比表面積逐漸減小。煅燒溫度為400 oC時,5%In-0.05%Sm-TiO2具有最強的光催化能力,降解率高達69.8%。光照60 min后,5%In-0.05%Sm-TiO2對甲基橙的降解率高達97.7%,幾乎使甲基橙完全脫色。
  3.以鈦酸四丁酯為鈦源,HZSM-5分子篩為載體,采用溶膠-凝膠法制備不同負(fù)載量的In-TiO2(x%)/HZSM-5復(fù)合光催化劑。結(jié)果表明,負(fù)載后TiO2仍保持了銳鈦礦晶體結(jié)構(gòu),負(fù)載抑制了T

6、iO2顆粒的生長,使其晶粒尺寸減小。隨著TiO2負(fù)載量的增加,比表面積逐漸減小,In-TiO2(20%)/HZSM-5的比表面積最大,可達253.3 m2/g。由甲基橙光降解實驗知,In-TiO2(50%)/HZSM-5的光催化活性最高,為60%。采用同樣的方法制備3%In-0.1%Gd-TiO2(x%)/HZSM-5,3%In-0.05%Sm-TiO2(x%)/HZSM-5復(fù)合光催化劑。結(jié)果表明,與3%In-0.1%Gd-TiO2,5

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