嵌段共聚物退火

1、非對(duì)稱(chēng)二嵌段共聚物膠束薄膜在溶劑退火非對(duì)稱(chēng)二嵌段共聚物膠束薄膜在溶劑退火過(guò)程中的形態(tài)變化過(guò)程中的形態(tài)變化摘要摘要對(duì)在氯仿溶劑蒸汽退火過(guò)程中不對(duì)稱(chēng)的聚苯乙烯對(duì)在氯仿溶劑蒸汽退火過(guò)程中不對(duì)稱(chēng)的聚苯乙烯——嵌段嵌段——聚（聚（2——乙烯基吡啶）二嵌段共聚物膠束薄膜的形態(tài)變化進(jìn)行了研乙烯基吡啶）二嵌段共聚物膠束薄膜的形態(tài)變化進(jìn)行了研究，最初，在膜表面形成納米級(jí)范圍的小島，進(jìn)一步的退火導(dǎo)致共究，最初，在膜表面形成納米級(jí)范圍的小島，進(jìn)一步的退火導(dǎo)致

2、共聚物聚物PSbPVP缸底部刷層以上構(gòu)成的島的生長(zhǎng)，為了進(jìn)行比較，缸底部刷層以上構(gòu)成的島的生長(zhǎng)，為了進(jìn)行比較，對(duì)從對(duì)從THF溶液（不含膠束結(jié)構(gòu)）中制備的嵌段共聚物進(jìn)行了研究，溶液（不含膠束結(jié)構(gòu)）中制備的嵌段共聚物進(jìn)行了研究，從THF中制備的膜的表面形態(tài)在溶劑退火過(guò)程中經(jīng)過(guò)去濕調(diào)幅機(jī)制中制備的膜的表面形態(tài)在溶劑退火過(guò)程中經(jīng)過(guò)去濕調(diào)幅機(jī)制在不斷地演變。在很長(zhǎng)一段時(shí)間的溶劑蒸汽退火中，兩種薄膜顯示在不斷地演變。在很長(zhǎng)一段時(shí)間的溶劑蒸汽退火中，

3、兩種薄膜顯示出相同的表面形態(tài)，這是由表面場(chǎng)和自動(dòng)去濕機(jī)制之間的相互作用出相同的表面形態(tài)，這是由表面場(chǎng)和自動(dòng)去濕機(jī)制之間的相互作用決定的。決定的。1介紹介紹嵌段共聚物（嵌段共聚物（BCP)可以自動(dòng)組裝成一系列的定義良好的，有序可以自動(dòng)組裝成一系列的定義良好的，有序的納米結(jié)構(gòu)，包括球體、圓柱體、薄片、與雙螺旋形的納米結(jié)構(gòu)，包括球體、圓柱體、薄片、與雙螺旋形、這個(gè)是取、這個(gè)是取決于相對(duì)組分聚合物決于相對(duì)組分聚合物【1E4】的體積分?jǐn)?shù)，嵌段共聚

4、物薄膜被確認(rèn)的體積分?jǐn)?shù)，嵌段共聚物薄膜被確認(rèn)為應(yīng)用于納米結(jié)構(gòu)工程中應(yīng)用范圍從磁存儲(chǔ)到光電材料、蝕刻抗蝕為應(yīng)用于納米結(jié)構(gòu)工程中應(yīng)用范圍從磁存儲(chǔ)到光電材料、蝕刻抗蝕劑和傳感器的模板和支架的理想材料，最近，溶劑退火可以被用作劑和傳感器的模板和支架的理想材料，最近，溶劑退火可以被用作生產(chǎn)長(zhǎng)程有序嵌段共聚物生產(chǎn)長(zhǎng)程有序嵌段共聚物【5E15】的薄膜的其中一個(gè)重要的方法已的薄膜的其中一個(gè)重要的方法已經(jīng)得到了證實(shí)，例如，經(jīng)得到了證實(shí)，例如，Niu和Sa

5、raf描述了一個(gè)通過(guò)溶劑退火制備描述了一個(gè)通過(guò)溶劑退火制備的高度有序嵌段共聚物薄膜的動(dòng)力學(xué)特征的有關(guān)機(jī)制，的高度有序嵌段共聚物薄膜的動(dòng)力學(xué)特征的有關(guān)機(jī)制，F(xiàn)ukunaga通常情況下，一個(gè)板塊在一個(gè)界面的優(yōu)先潤(rùn)濕經(jīng)常發(fā)生在以盡量通常情況下，一個(gè)板塊在一個(gè)界面的優(yōu)先潤(rùn)濕經(jīng)常發(fā)生在以盡量減少系統(tǒng)的自由能地情況下，從而導(dǎo)致該微區(qū)的平行取向。對(duì)稱(chēng)二減少系統(tǒng)的自由能地情況下，從而導(dǎo)致該微區(qū)的平行取向。對(duì)稱(chēng)二嵌段共聚物，當(dāng)薄膜的厚度到平衡片層間距是不

6、相稱(chēng)的，該膜厚度嵌段共聚物，當(dāng)薄膜的厚度到平衡片層間距是不相稱(chēng)的，該膜厚度的量化經(jīng)常發(fā)生，無(wú)論是孔或島嶼有核在薄膜表面來(lái)調(diào)整到薄膜厚的量化經(jīng)常發(fā)生，無(wú)論是孔或島嶼有核在薄膜表面來(lái)調(diào)整到薄膜厚度到優(yōu)選的量化值。當(dāng)與表面的聯(lián)系顯著減小時(shí)，厚度通約可能導(dǎo)度到優(yōu)選的量化值。當(dāng)與表面的聯(lián)系顯著減小時(shí)，厚度通約可能導(dǎo)致垂直方向薄片相對(duì)于所述邊界表面的取向。致垂直方向薄片相對(duì)于所述邊界表面的取向。然而，當(dāng)一個(gè)板塊與基材表面（面域）之間的相互作用是非常

7、強(qiáng)的然而，當(dāng)一個(gè)板塊與基材表面（面域）之間的相互作用是非常強(qiáng)的時(shí)候，穩(wěn)定的刷便可以形成。在刷密集的情況下，均聚物或同一區(qū)時(shí)候，穩(wěn)定的刷便可以形成。在刷密集的情況下，均聚物或同一區(qū)塊不能深入的滲透到刷，這可能導(dǎo)致材料的自動(dòng)去濕。據(jù)報(bào)道稱(chēng)，塊不能深入的滲透到刷，這可能導(dǎo)致材料的自動(dòng)去濕。據(jù)報(bào)道稱(chēng)，在一定條件下，在一定條件下，PS均聚物去濕均聚物去濕PS筆刷層可以附著到基板表面。嵌筆刷層可以附著到基板表面。嵌段共聚物的大混亂液滴也去濕有序共聚

8、物的致密層刷在嵌段共聚物段共聚物的大混亂液滴也去濕有序共聚物的致密層刷在嵌段共聚物薄膜略高于鏈轉(zhuǎn)變溫度薄膜略高于鏈轉(zhuǎn)變溫度[2021]。Lee等人報(bào)道稱(chēng)即去濕在用溶劑形等人報(bào)道稱(chēng)即去濕在用溶劑形成共聚物成共聚物PSbPVP嵌段共聚物的薄膜（嵌段共聚物的薄膜（4PS0.37）中致殘留）中致殘留的分層表面圖案的形成起到了重要的作用。的分層表面圖案的形成起到了重要的作用。據(jù)報(bào)道，各種嵌段共聚物的膠束可以在溶液中制備據(jù)報(bào)道，各種嵌段共聚物的膠束

9、可以在溶液中制備[2324]。特別地，使用特別地，使用LangmuireBlodgett嵌段共聚物膠束溶液自組裝法，嵌段共聚物膠束溶液自組裝法，浸涂法或旋涂的方法制備的納米尺寸的膠束單層膜是納米材料通用浸涂法或旋涂的方法制備的納米尺寸的膠束單層膜是納米材料通用的模板，他們的穩(wěn)定形態(tài)在將來(lái)的應(yīng)用中是至關(guān)重要的。在這項(xiàng)工的模板，他們的穩(wěn)定形態(tài)在將來(lái)的應(yīng)用中是至關(guān)重要的。在這項(xiàng)工作中，我們研究了在溶劑退火中不對(duì)稱(chēng)的二嵌段共聚物作中，我們研究了