微細加工技術論文

1、微細加工技術1微細加工技術微細加工技術1.微細加工技加工技術現(xiàn)術現(xiàn)狀1990年微細加工技術的生產水平是100μm到08μm。到1994年16MDRAM64MDRAM已生產254MDRAM也將投入生產。16—64MDRAM用03μm~04μm的微細加工技術。256MDRAM用025μm的加工技術。目前實驗室已做出1000MDRAM的產品。也就是說01μm~008m的微細加工技術不久也將投入生產。當前微細加工技術的動向是:一方面將生產16—

2、64MDRAM的設備進行改進以提高生產率另一方面是開發(fā)新工藝、新設備。微細加工技術的關鍵是曝光技術和干蝕技術。我們將以這兩方面為重點介紹微細加工技術的現(xiàn)狀和發(fā)展動態(tài)。116—64MDRAM生產技術的改進當前生產16MDRAM的設備一般都能生產64MDRAM。它們主要用縮小投影曝光裝置典型的有NSR—2005i10cEx10BNSR4425i。其主要參數(shù)如表1所示。縮小投影曝光裝置的特點上述三種裝置都能生產1464MDRAM器件其中NSR

3、4425i能生產256MDRAM器件光刻水平達到025μm。表1主要參數(shù)這三種設備校正系統(tǒng)都經過改進穩(wěn)定性大大提高。同時對干涉反射鏡曲線進行補正。干涉光路進行空調使精度大大提高。另外對放大倍率也進行補償和修正。使誤差控制在10nm以下。使用準分子激光器使曝光功率下降曝光成本下降。NSR4425i是一種成本較低而性能優(yōu)良的設備由于它采用了混合和匹配平臺能生產16M、64M、256MDRAM器件。場尺寸達44mm44mm主流場為22mm44

4、mm生產256MDRAM器件月產達2萬只。1.11.1印刷式曝光機印刷式曝光機1.1.11.1.1概要概要它是一種等倍率曝光機采用混合和匹配平臺具有“印刷”功能故而又稱它為超技術步進機。其突出優(yōu)點是生產性高而成本低。該類機中的優(yōu)秀者是224i型。它使用i線作曝光光線大口徑光學系統(tǒng)超高精度的平臺曝光光的波長為355~375nm。每小時能生產200mm片80枚。150mm片105枚主要參數(shù)如表2所示。微細加工技術3表4HL—800D系列基本

5、參數(shù)一次成型掃描法是通過轉寫掩膜形成的如圖1所示通過轉寫掩膜可一次形成較為復雜的圖形或使掃描線更精度。圖1一次成型和可變成型掃描圖通過使用補償法并運用轉寫掩膜或可以提高掃描速度或可以提高掃描線的精細程度但其代價是失去了無掩膜的優(yōu)點(有轉寫膜)。用轉寫掩膜該裝置可達到005μm的直線尺寸精度可達到015μm甚至有人說這類設備將來可生產1GDRAM器件。1.31.3干蝕技術干蝕技術在微細加工中尤其是達到025μm水平的精細加工中干蝕技術就顯