材料分析復(fù)習(xí)題

1、材料分析復(fù)習(xí)題材料分析復(fù)習(xí)題一名詞解釋名詞解釋一名詞解釋：一名詞解釋：光電效應(yīng)質(zhì)厚襯度X射線譜特征X射線譜：二次電子系統(tǒng)消光俄歇效應(yīng)衍射襯度連續(xù)譜背散射電子結(jié)構(gòu)因數(shù)激發(fā)電壓等同晶面明場成像暗場成像景深相干散射非相干散射短波限特征譜干涉面襯度焦長晶帶復(fù)型標(biāo)準(zhǔn)零層倒易面相機(jī)常數(shù)多重性因子吸收電子光電效應(yīng)：以光子激發(fā)原子所產(chǎn)生的激發(fā)和輻射過程稱為光電效應(yīng)。質(zhì)厚襯度：由試樣的厚度和密度造成的襯度。X射線譜：x射線管發(fā)出的x射線束的波長和強(qiáng)度的關(guān)

2、系曲線。特征X射線譜：在連續(xù)譜的基礎(chǔ)上疊加若干條具有一定波長的譜線稱為特征X射線譜。它和可見光的單色相似，亦稱單色X射線。二次電子：在入射電子束作用下被轟擊出來并離開樣品表面的樣品的核外電子。系統(tǒng)消光：因原子在晶體中位置不同或原子種類不同而引起的某些方向上的衍射線消失的現(xiàn)象稱之為系統(tǒng)消光。俄歇效應(yīng)如果原子在入射的x射線光子的作用下，K層電子被擊出，L層電子向K層躍遷，其能量差不是以產(chǎn)生K系X射線光量子的形式釋放，而是被鄰近電子所吸收，使

3、這個電子受激發(fā)而逸出原子成為自由電子俄歇電子(Augerelectrons)。這種現(xiàn)象叫做俄歇效應(yīng)。衍射襯度:由于樣品中不同晶體(或同種晶體不同位向)衍射條件不同而造成的襯度差別稱為衍射襯度。連續(xù)譜：具有連續(xù)波長的X射線，構(gòu)成連續(xù)X射線譜，它和可見光相似，亦稱多色X射線。（或答：管壓很低時，X射線譜的曲線是連續(xù)變化的，稱連續(xù)譜。）背散射電子：背散射電子是被固體試樣表面的原子核反射回來的一部份入射電子，包括彈性背散射電子和非彈性背散射電子

4、。結(jié)構(gòu)因數(shù)F2：反映了晶胞內(nèi)原子種類、原子個數(shù)、原子位置對（hkl）晶面衍射方向上衍射強(qiáng)度的影響。焦長：物平面固定在保證象清晰的條件下，像平面沿透鏡主軸上下移動的距離。（或答：透鏡像平面允許的軸向偏差）等同晶面：晶面間距相同晶面上原子排列規(guī)律相同的晶面.明場成像：讓透射束通過物鏡光闌，而把衍射束擋住得到圖象襯度的方法叫明吸收電子：二填空填空1.材料的性能由其內(nèi)部的決定2.X射線的本質(zhì)是，與所有的基本粒子一樣，X射線具有二象性。波長較長的

5、X射線，較低，穿透性弱，稱為X射線，可用于非金屬的分析。3.X射線的頻率ν、波長λ以及其光子的能量ε、動量p之間存在如下關(guān)系：ε==P=。4.K系特征譜線包含Kα和Kβ兩種類型譜線，其中波長λKαλKβ，能量EKαEKβ強(qiáng)度IKαIKβ(填大于，小于或等于)5.當(dāng)X射線照射物質(zhì)時，其強(qiáng)度隨透入深度呈衰減。6.一束X射線通過物質(zhì)時，它的能量會分為三部分：、、。7.非相干散射會增加連續(xù)背底，給衍射圖象帶來不利的影響8.只有當(dāng)入射x射線的波長

6、λλk時才能產(chǎn)生熒光輻射。1.產(chǎn)生衍射必須滿足布拉格方程；在滿足布拉格方程的方向并不一定都有衍射線發(fā)生。2.用單色x射線照射多晶體粉末試樣，衍射線分布在一組以入射線為軸的圓錐面上。在垂直于入射線的平底片上，得到一組同心圓。一般用以試樣為軸的圓筒底片來記錄，可看到一系列的對稱弧線。3.獲得衍射花樣的基本方法有勞埃法、周轉(zhuǎn)晶體法、粉末法。1.結(jié)構(gòu)振幅是以單個散射能力為單位的、反映一個散射能力的參量，是單位晶胞中所有原子散射波疊加的波。2.影

7、響多晶體衍射強(qiáng)度的因數(shù)有多重性因子、吸收因子、結(jié)構(gòu)因數(shù)、溫度因子、角因子。1.X射線衍射儀的主要組成部分有、、、。1.電磁透鏡由線圈、鐵殼和極靴組成。2.為使景深和焦長明顯增大，在電鏡中插入一個直徑較小的光闌?？讖桨虢窃叫【吧钤酱蟆?.透射電鏡的組成包括、、。其中電子光學(xué)系統(tǒng)統(tǒng)稱為，是透射電鏡的核心。2.透射電鏡是以波長極短的電子束作為照明源，用電磁透鏡聚焦成像的一種高分辨率、高放大倍數(shù)的電子光學(xué)儀器。電子槍是透射電鏡的電子源。電子束斑