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1、第三章第三章3–1(a)畫出晶體管在平衡時以及在正向有源工作模式下的能帶圖。PNP(b)畫出晶體管的示意圖并表示出所有的電流成分,寫出各級電流表達式。(c)畫出發(fā)射區(qū)、基區(qū)、集電區(qū)少子分布示意圖。3–2考慮一個硅晶體管,具有這樣一些參數(shù):,在均勻摻雜基區(qū)NPNmxB?2?。若集電結(jié)被反向偏置,,計231601.01105cmAscmNna???????mAInE1?算在發(fā)射結(jié)基區(qū)一邊的過量電子密度、發(fā)射結(jié)電壓以及基區(qū)輸運因子。3–3在3
2、–2的晶體管中,假設(shè)發(fā)射極的摻雜濃度為,,31810?cmmxE?2?nspE10??,發(fā)射結(jié)空間電荷區(qū)中,。計算在時的發(fā)射效率和。s??1.00?mAInE1?FEh3–4一NPN晶體管具有以下規(guī)格:發(fā)射區(qū)面積=1平方密耳,基區(qū)面積=10平方密耳,發(fā)射區(qū)寬度=,基區(qū)寬度=,發(fā)射區(qū)薄層電阻為,基區(qū)薄層電阻m?2m?12?為,集電極電阻率=,發(fā)射區(qū)空穴壽命=,基區(qū)電子壽命=100200?0.3.cm?ns1,假設(shè)發(fā)射極的復(fù)合電流為常數(shù)并等
3、于。還假設(shè)為突變結(jié)和均勻摻雜。計算nsA?1、以及時的。用半對數(shù)坐標(biāo)畫出曲AIE?10?mAmAmAA100101100、、、?A1FEh線。中間電流范圍的控制因素是什么?35(a)根據(jù)式(319)或式(320),證明對于任意的值公式(341)和nBLx(343)變成]EdEPEnBnanixNDLxLNDqAna???)(coth[211nBnainLxhLNnqADaacsc22112??])(coth[222PCdCPCnBnan
4、iLNDLxLNDqAna???(b)證明,若=給出(查~圖)則BamxNG?3181075.0??cmaN?SVcmn.5002??代入數(shù)據(jù)即可。qKTDLnnnnn?????pEELx?3–9若在式中假設(shè),則可在集電極電流I~曲線計算出根TEBVVxainnedxNnqADI??02nCII?cEV梅爾數(shù)。求出3–4中晶體管中的根梅爾數(shù)。采用、以及scmDn352?21.0cmA?。316105.1???cmni3–10(a)證明對
5、于均勻摻雜的基區(qū),式式簡化為????BBxxxaanTdxdxNNL02)1(11?22211nBTLx???(b)若基區(qū)雜質(zhì)為指數(shù)分布,即,推導(dǎo)出基區(qū)輸運因子的表示式。若BxxaeNN???0基區(qū)雜質(zhì)分布為,推導(dǎo)出基區(qū)輸運因子的表達式。0xLaNNe??311基區(qū)直流擴展電阻對集電極電流的影響可表示為,用公式以及示于圖3-12的數(shù)據(jù)估算出??0expcEBbbTIIVIrV???????bbr?312(a)推導(dǎo)出均勻摻雜基區(qū)晶體管的基
6、區(qū)渡越時間表達式。假設(shè)〈〈1。BnxL(b)若基區(qū)雜質(zhì)分布為,重復(fù)(a)0BaxxaNNe??313考慮晶體管具有示于圖3-16的雜質(zhì)分布,令發(fā)射極和基極面積相等(10平方密爾)且,發(fā)射極電流,集電結(jié)的反偏電壓為,計算在300K時截止0scr?2mA10V頻率。??314若實際晶體管的基極電流增益為e(1j),證明0??????jm???,0Tm?????(1)式中是共發(fā)射極電流增益模量為1時的頻率。T?315(a)求出圖3-23中輸出
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