高純三氯化硼的純化研究.pdf

1、高純三氯化硼主要用于IC制造工藝中技術要求很高、對電路成品率影響很大的化學氣相淀積（CVD）成膜過程以及等離子干法刻蝕過程，會對IC產品的品質帶來很關鍵的作用，且不可以其他電子氣體代替。它的雜質含量和純度直接影響IC、電子元器件的質量、性能、技術指標和成品率。為保證軍用IC產品的質量和可靠性，對工藝配套原料氣提出很高的要求，要求三氯化硼純度必須在99.999％（5N）以上。5N以上的高純三氯化硼國內尚不能生產，該級別產品完全依靠從美國、

2、英國、日本等國外幾家大公司進口。
　　本文主要采用粗制三氯化硼為原料，經(jīng)過高壓常溫吸收和低溫冷卻抽空相聯(lián)合的方式，深層次的除掉三氯化硼中的所有雜質，生產出純度為99.999%的三氯化硼產品。創(chuàng)建一套多單元聯(lián)合的深層次提純工藝系統(tǒng)，展開高純度三氯化硼有害雜質氣體剖析測試方式探究，而探究改性吸附劑對該種物質吸附特性的作用，得到了下面這些結果：⑴選擇多單元聯(lián)合式深層次提純以及低溫冷凝抽空相聯(lián)合的方式，用自制的KY-05分子篩，深度脫除三

3、氯化硼中的很多有害的雜質，提純之后的三氯化硼中所有有害物質符合對應的要求，純度高達99.999%。⑵按照5N三氯化硼中一些雜質的檢驗要求，構建了一套三氯化硼所有雜質的剖析檢測方式。⑶在超臨界氣化除去三氯化硼中2O2、N雜質的試驗中，結果顯示冷凝抽空次數(shù)對氧、氮雜質的除去的作用比較顯著，獲得純度高的三氯化硼最佳冷凝抽空次數(shù)為4次。⑷探討了氣體流速對吸附性能的作用，結果顯示，在三氯化硼流速小于3L/min時，吸附劑對三氯化硼CO、CO2、T