碰撞效應(yīng)對射頻等離子體鞘層特性及刻蝕剖面的影響.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、該文建立了一套自洽的碰撞射頻等離子體鞘層理論模型,系統(tǒng)地研究了碰撞效應(yīng)對等離子體鞘層的物理特性、離子入射到基板上的能量分布和角度分布以及刻蝕剖面的影響.首先將Liberman的無碰撞射頻鞘層模型進(jìn)行推廣,考慮了離子與中性粒子的電荷交換碰撞效應(yīng),建立了描述碰撞射頻等離子體鞘層動力學(xué)特性的自洽模型,研究了碰撞效應(yīng),射頻偏壓,電源參數(shù)等對射頻鞘層的瞬時(shí)厚度及電場分布的影響.其次,利用已建立的碰撞等離子體鞘層模型和Monte-Carlo方法模擬

2、了離子在射頻鞘層電場中的運(yùn)動過程,不僅考慮了離子同中性粒子的電荷交換碰撞,還考慮了它們之間的彈性碰撞過程,研究了碰撞效應(yīng)對入射到基板上的離子能量分布和角度分布的影響.最后,針對等離子體刻蝕工藝,建立了微結(jié)構(gòu)區(qū)剖面的時(shí)空演化模型,并模擬了碰撞效應(yīng)和電源參數(shù)對刻蝕剖面演化的影響.數(shù)值結(jié)果表明:隨著放電氣壓增加,離子在基板上的能量分布逐漸地由雙峰分布變成單峰分布,而且低能離子的數(shù)目也逐漸地增加.入射到基板上的離子呈小角分布,而且放電氣壓等參數(shù)

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