碰撞對(duì)非對(duì)稱射頻等離子體鞘層物理特性的影響.pdf_第1頁(yè)
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1、大連理工大學(xué)碩士學(xué)位論文碰撞對(duì)非對(duì)稱射頻等離子體鞘層物理特性的影響姓名：蘆巖申請(qǐng)學(xué)位級(jí)別：碩士專(zhuān)業(yè)：等離子體物理指導(dǎo)教師：王友年20040301AbstractLowpressureplasmashavebeenwidelyusedforprocessesinthemicroelectronicsindustry，suchasplasmaetchingandfilmdepositionItiswellknownthatsurfacere

2、actionsandetchingratesarestronglyaffectedbytheenergyandangledistributionsofionsincidentonthesubstratesurfacesGenerally，itisoftenrequiredtosetindependentlyaradio—frequency(rf)biasvoltageonasubstrateinaplasmaprocesssothata

3、rfsheathwiiibeformednearthesubstratesurfaceFormostreactiverfplasmaetchingprocessing，plasmasheathsneartwoelectrodesareasymmetricduetothepoweredelectrodeareabeingsmallerthanthegroundedelectrodeareaTakingaccountintocollisio

4、naleffectsofionswithneutralsinthesheaths，aselfconsistentdynamicmodelisproposedheretodescribecharacteristicsofradio—frequencysheathsNumericalresultsshowthecollisionaleffectsonsomephysicsquantities，suchasinstantaneousvolta

5、gesontheelectrodesinstancaneousthicknessesoftheelectronsheathes，spatialdistributionsoftheiondensityandtheelectricfieldinthesheathsandinstantaneousvoltagedifferencebetweentwoelectrodesIthasbeenshownformnumericalresultstha

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