一維缺陷光子晶格的制備及光學(xué)性質(zhì)的研究.pdf

1、人們一直努力將光技術(shù)應(yīng)用于更加廣闊的領(lǐng)域。這就需要能夠更好的控制光的傳播。關(guān)于光在離散介質(zhì)中傳播特性的研究為之提供了新的途徑。相較于光在均勻介質(zhì)中的傳播，光在離散結(jié)構(gòu)中的傳播表現(xiàn)出了眾多不同的性質(zhì)。后來(lái)人們發(fā)現(xiàn)，在有缺陷的光子晶格中，光的傳播又表現(xiàn)出了更加新穎的特性，如在線性條件下光束的局域、光束的路由等。這些特性在光通訊、全光信號(hào)數(shù)據(jù)處理等眾多領(lǐng)域都表現(xiàn)出了廣闊的應(yīng)用前景。因此，這一方面的研究也受到越來(lái)越多的科研小組的關(guān)注。目前，科學(xué)

2、研究中采用的缺陷光子晶格大多數(shù)是由光誘導(dǎo)產(chǎn)生。光誘導(dǎo)制得的缺陷光子晶格的周期較大，長(zhǎng)度較小，不能夠達(dá)到某些研究的要求。而利用激光直寫(xiě)技術(shù)制作缺陷光子晶格的方法能夠輕松克服這些困難。
　　 本論文中，詳細(xì)介紹了用激光直寫(xiě)技術(shù)加工一維缺陷光子晶格的方法。在一維鈮酸鋰光子晶格中的某條或幾條波導(dǎo)上進(jìn)行精密掃描。由于鈮酸鋰是一種光折變自散焦晶體，因此當(dāng)光強(qiáng)大小合適時(shí)，光照區(qū)域的折射率就會(huì)變小，從而制得了負(fù)缺陷光子晶格。其中詳細(xì)介紹了加工試