反射式飛行時(shí)間質(zhì)譜物理設(shè)計(jì)和OCS電子貼附解離實(shí)驗(yàn).pdf

1、飛行時(shí)間質(zhì)譜是一種在現(xiàn)代物理和化學(xué)領(lǐng)域應(yīng)用的極為廣泛的分析工具。飛行時(shí)間質(zhì)譜儀主要分為線型飛行時(shí)間質(zhì)譜儀和反射式飛行時(shí)間質(zhì)譜儀這兩種。其中，反射式飛行時(shí)間質(zhì)譜儀質(zhì)量分辨較高，因此，我們模擬設(shè)計(jì)了一種反射式飛行時(shí)間質(zhì)譜儀。模擬的質(zhì)譜分辨率較高，可以用于研究更復(fù)雜的電子貼附解離反應(yīng)。我們?cè)敿?xì)介紹了反射式飛行時(shí)間質(zhì)譜的原理以及各項(xiàng)參數(shù)，然后對(duì)離子束飛行時(shí)間等相關(guān)參數(shù)進(jìn)行了模擬優(yōu)化。
　　電子貼附解離(DEA)反應(yīng)是指能量較低的電子與分子

2、碰撞發(fā)生貼附解離，產(chǎn)生負(fù)離子碎片和中性粒子碎片。用負(fù)離子速度成像裝置可以檢測(cè)負(fù)離子的切片成像，從而得到負(fù)離子的截面、動(dòng)能分布和角度分布等信息，再結(jié)合理論計(jì)算，我們可以推測(cè)出貼附解離反應(yīng)的動(dòng)力學(xué)過程。
　　我們使用實(shí)驗(yàn)室搭建的負(fù)離子速度成像裝置進(jìn)行了入射電子能量為4.3、4.7、5.0、6.2、6.5、6.8、7.0以及7.5eV這幾個(gè)能量點(diǎn)下的OCS電子貼附解離實(shí)驗(yàn)。在上述能量點(diǎn)下，OCS貼附解離反應(yīng)都為同一解離通道，即e-+OC