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文檔簡介
1、為了解決傳統(tǒng)二維集成電路在集成規(guī)模、速度和功耗方面遇到的瓶頸,三維集成方案應運而生,其中硅通孔(Through Silicon Via,TSV)技術(shù)是三維集成電路中的關鍵技術(shù),因此得到業(yè)內(nèi)越來越多的關注和研究。它為芯片互連提供最短的互連距離以及最小的焊盤尺寸和中心距。在三維集成電路中因 TSV互連線密度大以及制作過程復雜,TSV不可避免地出現(xiàn)與過程相關的缺陷,從而影響三維芯片間的信號傳輸性能以及長期的可靠性。因此對硅通孔進行信號完整性分
2、析和缺陷故障測試是十分有必要的。本文針對TSV互連結(jié)構(gòu)所做的研究工作概括如下:
1.在學習TSV集成和工藝技術(shù)的基礎上,建立單個TSV結(jié)構(gòu)的三維全波仿真物理模型。深入理解信號完整性理論中的反射理論與S參數(shù)理論,對TSV結(jié)構(gòu)參數(shù)進行S參數(shù)仿真分析,得到各項結(jié)構(gòu)參數(shù)變化對TSV傳輸性能的影響,為TSV結(jié)構(gòu)參數(shù)選取提供參考。
2.依據(jù)高速電路理論以及參數(shù)提取方法,并考慮高頻情況下的寄生效應對 TSV的影響,建立基于硅基板的
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