納米孔隙聚合物薄膜在增透膜和光子晶體方面的應(yīng)用研究.pdf

1、本文首先闡述光學(xué)增透膜的基本理論，介紹傳統(tǒng)工藝光學(xué)增透膜的制備方法和特點(diǎn)，對比了普通光學(xué)增透膜和聚合物納米孔隙光學(xué)增透膜的各自特點(diǎn)，分析了聚合物納米孔隙光學(xué)增透膜的優(yōu)勢，并介紹了兩種增透膜的孔隙率與折射率之間的關(guān)系的理論。 論文在隨后的第三章首先詳細(xì)論述了聚合物納米孔隙光學(xué)增透膜的制備工藝過程，然后集中討論了主要工藝條件對聚合物納米孔隙光學(xué)增透膜的影響，指出使用低分子量聚合物材料、提高環(huán)境溫度、減小環(huán)境濕度和采用低沸點(diǎn)溶劑都是制

2、備出納米孔隙增透膜的關(guān)鍵因素。 論文的第四章在介紹了光子晶體的一般性知識的基礎(chǔ)上提出了基于嵌段共聚物納米孔隙薄膜的光子晶體的概念。時域有限差分法（FDTD）是理論上研究光子晶體最常用的方法之一。論文第五章從FDTD方法的一般性理論出發(fā)，具體介紹了一種基于非正交坐標(biāo)系統(tǒng)的模擬光子晶體的FDTD方法，并利用這種方法得到了納米孔隙薄膜光子晶體的光子帶隙的性質(zhì)，從理論上證明了這種光子晶體可以解決基于聚合物的光子晶體介電常數(shù)比相對較低的問