C、Hf薄膜抑制柵極電子發(fā)射的機(jī)理研究.pdf

1、本論文研究了脈沖柵控行波管中，C、Hf薄膜對(duì)抑制柵極電子發(fā)射所起的作用，討論了兩種薄膜的工作機(jī)理。實(shí)驗(yàn)中，分別利用雙離子束濺射和射頻磁控濺射技術(shù)在Mo基底上制備了C膜和Hf膜，并利用化學(xué)方法制備了BaO涂層以模擬行波管柵極結(jié)構(gòu)，隨后在N2保護(hù)下，通過(guò)在900K到1300K范圍內(nèi)退火，研究柵極處于高溫工作環(huán)境下表面相結(jié)構(gòu)和成分的變化，以此解釋了C、Hf薄膜抑制柵極電子發(fā)射的工作機(jī)理?！　±秒p離子束濺射沉積技術(shù)可以制備出類金剛石結(jié)構(gòu)的C

2、膜，經(jīng)過(guò)973K退火以后，Raman光譜顯示薄膜由原先的類金剛石相轉(zhuǎn)變成了石墨相，由此可以推測(cè)在較高的柵極溫度下C膜以石墨相結(jié)構(gòu)存在。此外，為研究C薄膜與柵極表面污染物BaO的作用，制備了兩種不同結(jié)構(gòu)的樣品：BaO/Mo和BaO/C/Mo。通過(guò)不同退火溫度下它們的XPS圖譜Ba3d5/2峰強(qiáng)對(duì)比可知C對(duì)BaO有去除作用，然而這種作用與溫度有很大關(guān)系，這種去除作用是由于在高溫下C與BaO發(fā)生了化學(xué)反應(yīng)，使表面BaO含量減少，較高的表面逸出