LB法制備ZnO和MgxZn1-xO薄膜及其光學性能研究.pdf

1、采用LB技術(shù)在石英襯底上制備出ZnO薄膜以及MgxZn1-xO薄膜，研究了ZnO及MgxZn1-xO薄膜的成膜條件和拉膜條件，并對制備的ZnO及MgxZn1-xO薄膜進行了X射線衍射分析（XRD）、紫外-可見光譜（UV-Vis）分析及原子力顯微鏡（AFM）的表征。對不同層數(shù)及不同Mg摻雜量對MgxZn1-xO光學性能的影響進行了探討。
　　通過LB膜技術(shù)，確定了較佳的亞相濃度，滑障速度，鋪展液的靜置時間，鋪展量；在適宜的轉(zhuǎn)移膜壓、

2、基片向上提拉速度、向下浸入速度，可獲得轉(zhuǎn)移比在1.0附近，性能穩(wěn)定的硬脂酸/ZnO復合LB膜。在此基礎上確定了亞相濃度，滑障速度，鋪展液的靜置時間，鋪展量等較佳的MgxZn1-xO薄膜的成膜條件；轉(zhuǎn)移膜壓，基片向上提拉速度，向下浸入速度等拉膜條件，獲得轉(zhuǎn)移比在1.0附近，性能穩(wěn)定的硬脂酸/MgxZn1-xO復合LB膜。
　　通過熱處理，獲得了ZnO和MgxZn1-xO粉體及超薄膜。采用X射線衍射（XRD）檢測其結(jié)晶狀態(tài)，并通過紫外

3、-可見光譜（UV-Vis）對復合LB膜的層間重疊情況進行了考查。ZnO及MgxZn1-xO復合LB膜及超薄膜的表面形貌及粒子覆蓋度等信息，則通過原子力顯微鏡（AFM）進行了檢測。采用PL光譜研究了不同層數(shù)和Mg摻雜量對ZnO及MgxZn1-xO薄膜光學性能的影響。摻入Mg后，薄膜的結(jié)晶質(zhì)量提高。隨著Mg的摻雜量x的增加，MgxZn1-xO薄膜的紫外發(fā)射強度增大；當x≥0.4時，紫外發(fā)射峰強度減小。在Mg摻雜量一定的情況下，隨著提拉層數(shù)的