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文檔簡介
1、J-C模型是量子光學(xué)中描述光場與原子相互作用最簡單和最典型的模型,是用來描述單個(gè)二能級原子與單模輻射光場的相互作用。 本文主要是從考慮腔耗散和加Kerr介質(zhì)來研究J-C模型。把JCM模型同時(shí)擴(kuò)展到腔耗散和加克爾介質(zhì)的情況,到目前為止,僅有一篇文章做了類似工作。 但是他們在討論耗散或克爾介質(zhì)對原子與光場之間糾纏的影響時(shí),用的是線性熵理論。 光場的線性熵(原子線性熵)描述的是光場(原子)與原子(光場)和環(huán)境組成系統(tǒng)之
2、間的糾纏,它不能描述原子與場之間的糾纏。所以用線性熵描述原子與光場之間的糾纏是不完美的。 當(dāng)一個(gè)系統(tǒng)由三個(gè)元素組成(比如A,B和C),Olaya-Castro等人用下面的式子來描述原子與光場的內(nèi)秉糾纏(intrinsic entenglment),MA,B=SA+SB-SA,B,MA,B可以非常好地來描述了A,B之間的糾纏。本文用Olaya-Castro等人理論研究了加Kerr介質(zhì)耗散腔中標(biāo)準(zhǔn)J-C模型和非線性J-C模型,Ker
3、r介質(zhì)對原子、光場之間內(nèi)秉糾纏的影響。結(jié)果表明隨著Kerr介質(zhì)的增強(qiáng)其內(nèi)秉糾纏隨時(shí)間演化周期變小。 本文將標(biāo)準(zhǔn)J-C模型和依賴強(qiáng)度耦合J-C模型在考慮相位耗散的情況下放入克爾介質(zhì)中,來討論克爾介質(zhì)對兩種J-C模型線性熵及內(nèi)秉糾纏演化的影響。 在旋波近似下得到系統(tǒng)的有效哈密頓量,通過解矩陣元得到原子和光場的約化密度算符,從而獲得原子、光場和系統(tǒng)的線性熵及內(nèi)秉糾纏。 然后比較在沒有克爾介質(zhì)和有克爾介質(zhì)的情況下線性熵的
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