多層介質(zhì)膜光柵掩模槽形的控制與檢測.pdf

1、本文圍繞多層介質(zhì)膜光柵掩模的制作展開理論和實(shí)驗(yàn)研究，主要內(nèi)容包括以下幾個(gè)方面：首先介紹了研究慣性約束核聚變(ICF)的意義和國際上脈沖壓縮光柵(PCG)的研究進(jìn)展。對(duì)光柵電磁場的嚴(yán)格矢量理論作了一定的介紹，選擇嚴(yán)格耦合波(rigorouscoupled-wave，i.e.RCW)理論作為本課題有關(guān)光柵衍射效率數(shù)值計(jì)算的理論基礎(chǔ)。全息干涉是目前制作脈沖壓縮光柵(PCG)的唯一有效方法。全息記錄材料也就是掩模的材料是光刻膠，因此本文對(duì)光刻膠

2、的特性進(jìn)行了比較深入地研究，重點(diǎn)分析了顯影液溫度和顯影時(shí)間這兩個(gè)因素對(duì)它的影響。并以此為依據(jù)，采用數(shù)據(jù)擬合及實(shí)驗(yàn)摸索的方法，得到了控制光柵掩模槽形比較有效的方法。由于顯影是掩模制作的最后一道工序，而且它能對(duì)曝光起到一定的補(bǔ)償作用，對(duì)最后的槽形有重要影響，因此在本課題中采用了顯影實(shí)時(shí)監(jiān)測的辦法，采用測量監(jiān)測光(監(jiān)測光不能使得光刻膠感光)某級(jí)衍射效率的辦法來判斷顯影過程中槽形的變化情況。最后論文提出了一種研究多層介質(zhì)膜光柵掩模的無損檢測方法