版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡(jiǎn)介
1、隨著我國(guó)市場(chǎng)經(jīng)濟(jì)的發(fā)展,IC卡得到越來(lái)越廣泛的運(yùn)用??ㄖ蠩EPROM存儲(chǔ)器的優(yōu)劣深刻影響IC卡的性能。隧道氧化層的退化是引起EEPROM可靠性的主要原因。本文利用MOS電容和浮柵引出的FLOTOX EEPROM單元結(jié)構(gòu)研究了隧道氧化層在恒流應(yīng)力下的退化。研究表明擊穿電荷量QBD與電流密度和電流方向有關(guān)。QBD隨著電流密度的增大而減小,正電流偏置應(yīng)力下的QBD較大。給出了評(píng)價(jià)EEPROM耐久性的QBD測(cè)試方法。當(dāng)QBD>5C/cm2時(shí),E
2、EPROM擦/寫(xiě)次數(shù)可超過(guò)10萬(wàn)次。柵壓和閾值電壓的變化表明隧道氧化層的退化與注入電荷量Qinj和注入方向有關(guān)。低Qinj下,隧道氧化層中以正電荷俘獲為主;在高Qinj下,以負(fù)電荷的俘獲為主。柵注入應(yīng)力下產(chǎn)生更多的正陷阱電荷和界面態(tài)。通過(guò)物理模型解釋了實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象。設(shè)計(jì)了專用的測(cè)試系統(tǒng),對(duì)嵌入式:EEPROM IP核的可靠性進(jìn)行了研究。 通過(guò)簡(jiǎn)單的解析模型,提出了電荷泵電路功耗最小化的設(shè)計(jì)原則。利用這一原則,可以由輸入和輸出電壓確定
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- EEPROM中柵氧化層的可靠性研究.pdf
- EEPROM的氧化層特性和電荷保持特性分析.pdf
- EEPROM IP關(guān)鍵模塊的優(yōu)化設(shè)計(jì).pdf
- 用于集成式ATCXO的EEPROM修調(diào)電路設(shè)計(jì).pdf
- 寒區(qū)隧道保溫隔熱層的優(yōu)化設(shè)計(jì)研究.pdf
- 雙界面卡EEPROM控制器電路設(shè)計(jì).pdf
- 速凍隧道流場(chǎng)模擬及隧道的優(yōu)化設(shè)計(jì).pdf
- 基于多階信號(hào)調(diào)制技術(shù)的高速SerDes物理層電路設(shè)計(jì)優(yōu)化.pdf
- 適用于汽車電子的高性能EEPROM關(guān)鍵電路設(shè)計(jì).pdf
- EEPROM電路的耐久性和保持性研究.pdf
- 基于0.18μmcmos工藝的高速低功耗eeprom關(guān)鍵電路設(shè)計(jì)
- 柵極的再氧化對(duì)EEPROM閾值電壓的影響及可控研究.pdf
- 基于fpga的eeprom設(shè)計(jì)
- 適用于RFID標(biāo)簽芯片的EEPROM的優(yōu)化設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn).pdf
- 連拱隧道設(shè)計(jì)及施工優(yōu)化.pdf
- 數(shù)字電路BIST設(shè)計(jì)中的優(yōu)化技術(shù).pdf
- EEPROM在SoC中的嵌入及應(yīng)用設(shè)計(jì)研究.pdf
- 隧道支護(hù)優(yōu)化分析及施工監(jiān)測(cè)技術(shù).pdf
- 0.6微米eeprom工藝制造的轉(zhuǎn)讓和優(yōu)化
- 量子可逆邏輯電路的設(shè)計(jì)及優(yōu)化.pdf
評(píng)論
0/150
提交評(píng)論