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文檔簡介
1、隨著器件工藝尺寸的不斷減小,靜態(tài)隨機(jī)存取存儲器(Static Random Access Memory,SRAM)中相鄰的存儲單元之間的距離變得越來越近,對空間和地面中的質(zhì)子、中子、τ粒子以及宇宙射線等電離輻射更加敏感。由一次電離輻射事件造成的單粒子翻轉(zhuǎn)(Single Event Upset,SEU)和多位錯誤翻轉(zhuǎn)(Multiple Bit Upset,MBU)都明顯增加。存儲器抗輻射翻轉(zhuǎn)已經(jīng)成為SRAM加固中的研究熱點(diǎn)。
同
2、時,由于CMOS超大規(guī)模集成電路的發(fā)展,器件等比例縮小、柵介質(zhì)層厚度的不斷減小,負(fù)偏置溫度不穩(wěn)定性(Negative Bias Temperature Instability,NBTI)效應(yīng)對PMOS器件和電路的可靠性的影響變得越來越顯著,成為影響器件及電路壽命不可忽略的因素之一。
本文在深入研究存儲器存儲單元單節(jié)點(diǎn)翻轉(zhuǎn)和多位翻轉(zhuǎn)以及NBTI效應(yīng)對器件老化的影響的基礎(chǔ)上,從電路級和系統(tǒng)級加固方法的角度出發(fā),利用一步大數(shù)邏輯譯碼
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