已閱讀1頁,還剩50頁未讀, 繼續(xù)免費閱讀
版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡介
1、銻化物材料在中紅外波段有著廣闊的前景和重要的應(yīng)用,GaSb是銻化物材料的基礎(chǔ),它和很多三元四元化合物晶格相匹配是銻化物材料的理想襯底。但是本征 GaSb存在大量受主,無法得到半絕緣襯底。此外,對于銻化物量子阱激光器結(jié)構(gòu)中要求GaSb具有不同類型的導(dǎo)電特性和不同的摻雜濃度。近年來用MBE法生長GaSb材料有效的解決了以上問題。
本文利用MBE法通過對 Ga源溫度、生長溫度及Be源溫度的調(diào)控,制備了Be摻雜的GaSb薄膜。通過HA
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- GaSb材料Si基外延及物性研究.pdf
- GaSb基材料的異質(zhì)外延及物性研究.pdf
- Zn擴散制備GaSb PN結(jié)的工藝及物性研究.pdf
- Mn、Co摻雜SiC稀磁半導(dǎo)體薄膜的制備及物性研究.pdf
- 磁控濺射制備MgO薄膜及物性研究.pdf
- EuTiO3薄膜制備及物性研究.pdf
- 單層PZT薄膜和雙層PZT薄膜的制備及物性研究.pdf
- Co摻雜ZnO納米晶體的制備及物性研究.pdf
- 18396.srmno3薄膜的制備及物性研究
- 復(fù)合氧化物薄膜生長機理及物性研究.pdf
- GaSb薄膜及其超晶格結(jié)構(gòu)的分子束外延生長與物性研究.pdf
- CVD法制備二硫化鉬薄膜及物性研究.pdf
- Cu2O薄膜原子層沉積生長及物性研究.pdf
- 新型功能光學(xué)薄膜的磁控濺射工藝及物性研究.pdf
- Fe基軟硬磁薄膜的制備及物性分析.pdf
- 摻SiO2鈷鐵氧體薄膜的制備及物性研究.pdf
- 動詞及物性
- GaSb薄膜模擬外延生長研究.pdf
- 鋯基高介電常數(shù)柵介質(zhì)薄膜的制備及物性研究.pdf
- 二氧化鉿柵介質(zhì)薄膜的制備及物性研究.pdf
評論
0/150
提交評論