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文檔簡介
1、微弧氧化是目前被認為對純鎂表面處理較好的方法,為了較好地控制其成膜結構和工藝,需要對其成膜過程進行系統(tǒng)分析。本文在鋯鹽體系電解液中,通過改變電壓和時間,研究了微弧氧化膜層形成過程。結果表明:
當電壓為90 V-100 V時試樣表面部分區(qū)域被腐蝕,生成腐蝕產物,腐蝕面積比例約為23%-27%;110 V-130 V電壓處理時,網(wǎng)狀氧化物所占面積隨電壓升高而增加,氧化面積比例增大到80%左右;電壓大于140 V處理后,氧化物基本覆
2、蓋整個基體表面,氧化面積基本穩(wěn)定在88%-95%左右。
膜層表面掃描電子顯微分析表明,90 V-100 V電壓處理后,基體部分薄弱區(qū)域被腐蝕,腐蝕區(qū)域凹陷且不平整,腐蝕產物呈顆粒狀;110 V-130 V電壓處理后,試樣表面逐漸開始有凸于基體表面的顆粒狀沉積物,形成腐蝕產物與沉積物共存的形貌,且隨電壓升高沉積物的量所占比例隨之提高;140 V-160 V電壓處理后膜層表面開始出現(xiàn)少量微孔形貌,且隨電壓升高微孔越來越明顯;170
3、 V-180 V電壓處理后,可見典型的微弧氧化火山口形貌。
膜層表面元素分析表明,電壓為140 V-180 V時氟元素相對含量明顯高于90 V-130 V時,說明電壓在130 V升至140 V時,氟元素在成膜過程中的作用顯著增大;鋯元素在電壓為130 V時開始出現(xiàn),電壓大于140 V后含量逐漸增加,說明鋯元素可能在電壓高于130 V后開始參與成膜。
膜層截面微觀形貌分析表明,隨電壓升高,膜層厚度增加,膜層與基體結合逐
4、漸牢固,膜層更加致密,150 V電壓處理試樣截面出現(xiàn)微孔,170 V電壓處理試樣截面微孔數(shù)量增加、孔徑增大。膜層截面元素分析表明,靠近基體區(qū)域有氟元素的富集;通過分析鎂元素含量近似線性變化的區(qū)域,可知,隨電壓升高,過渡層厚度逐漸增加。
按電壓變化,本文將純鎂微弧氧化膜層形成過程分為四個階段:第一階段(90 V-100 V)為腐蝕階段,第二階段(110 V-130 V)為陽極沉積階段,第三階段(140 V-160 V)為微孔形成
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