純鎂表面液相電解滲硫與微弧氧化復(fù)合制備膜層的研究.pdf

1、滲硫處理可在金屬表面形成結(jié)構(gòu)疏松、摩擦系數(shù)小的硫化物層,進(jìn)而提高金屬材料的耐磨損性能。液相電解沉積技術(shù)，是一種利用等離子體電解使材料表面性能改變的一門新興技術(shù)，其工藝簡(jiǎn)單、操作條件易于實(shí)現(xiàn)，能夠有效的改善金屬表面的一些性能；液相電解沉積技術(shù)可分為液相電解滲透技術(shù)和微弧氧化技術(shù)；其中液相電解滲透技術(shù)，主要應(yīng)用于黑色金屬的表面改性領(lǐng)域，在有色金屬領(lǐng)域的研究較少，而微弧氧化技術(shù)，則主要應(yīng)用于有色合金的表面處理。
　　本文采用液相電解滲硫

2、技術(shù)，在硫代硫酸鈉體系的電解液中，在純鎂表面制備滲硫表面改性層。并且采用正交實(shí)驗(yàn)，篩選出了優(yōu)化的電解液濃度和滲透時(shí)間。比較分析了純鎂基體與滲硫表面改性層的微觀形貌特征、元素分布、相組成及其硬度、耐蝕、耐磨性能；最后在篩選出的最優(yōu)滲硫試樣表面進(jìn)行了微弧氧化處理，以期通過(guò)液相電解滲硫和微弧氧化復(fù)合處理得到性能優(yōu)異的復(fù)合陶瓷層。
　　研究表明，純鎂基體在酸性硫代硫酸鈉溶液中，通過(guò)液相電解滲透技術(shù)，能夠?qū)崿F(xiàn)滲硫處理，并且在純鎂基體表面生成

3、了一定厚度的含 S改性層，S元素分布于純鎂基體淺表層，S元素的含量由表及里依次呈遞減趨勢(shì)。與純鎂基體相比，經(jīng)液相電解滲硫試樣表面的腐蝕電流密度均變小、腐蝕電位均正移、極化電阻均增大，說(shuō)明純鎂基體的耐蝕性能得到了明顯的改善；而且經(jīng)液相電解滲硫處理后的試樣的耐磨性能均得到了一定的提高。綜合性能結(jié)果篩選出的優(yōu)化的電解液配方為550g/LNa2S2O3·5H2O+4g/LH3BO3和10min滲透時(shí)間；與純鎂基體相比，滲硫改性層表面出現(xiàn)了新物相