過(guò)渡金屬與Al2O3納米復(fù)合物的吸波和發(fā)光性能研究.pdf

1、本文采用球磨法制備了Ni/Al2O3及Fe/Al2O3納米復(fù)合物，并采用脈沖激光沉積方法(PLD)在單晶Si襯底上制備Al2O3、Cr3+∶Al2O3薄膜。應(yīng)用X射線衍射法(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)、熒光分光光度計(jì)和振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì)(VSM)對(duì)其結(jié)構(gòu)、表面形貌、發(fā)光及磁性能進(jìn)行了表征，用矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀對(duì)納米復(fù)合物的電磁波吸收性能進(jìn)行測(cè)量。研究了退火對(duì)Ni/Al2O3、Fe/Al2O3納米復(fù)合物吸波性能的影響，并分析了不同鍍膜條件

2、對(duì)Al2O3薄膜發(fā)光性能的影響。
　　1.采用球磨法制備了Ni/Al2O3納米復(fù)合物，在氬氣條件下進(jìn)行100℃和700℃退火。退火后樣品中的Ni和Al2O3晶粒尺寸增大，飽和磁化強(qiáng)度增加，表面各向異性減小。球磨樣品在厚度為6.6mm，在頻率為17.8GHz時(shí)達(dá)到最佳反射損耗-23dB。經(jīng)700℃退火后在厚度6.6-9.7mm時(shí)，在整個(gè)Ku-波段內(nèi)反射損耗都超過(guò)-20dB，在厚度9.3mm，頻率為13.2GHz時(shí)反射損耗達(dá)到最大-5

3、4.7dB。這一優(yōu)良的電磁波吸收性能歸因于較大的介電損耗和磁損耗。
　　2.采用球磨法成功制備了Fe/Al2O3納米復(fù)合物，在氬氣保護(hù)下進(jìn)行700℃退火0.5h。研究了退火對(duì)Fe/Al2O3納米復(fù)合物的微觀結(jié)構(gòu)和微波吸收性能的影響。退火后樣品晶粒尺寸增大，缺陷減少，微觀應(yīng)力得到釋放;與此同時(shí)，Al2O3的缺陷發(fā)光峰強(qiáng)度明顯減弱，398nm和484nm處的發(fā)光峰發(fā)生藍(lán)移。球磨樣品在厚度為7.7mm時(shí)，反射損耗在15.5GHz頻率處達(dá)

4、到最大值-11.4dB。退火后樣品的介電損耗和磁損耗均增加，電磁波吸收性能明顯提高，在厚度為6.4mm時(shí)反射損耗在17GHz頻率處達(dá)到最大值-35.5dB。
　　3.采用PLD法制備了Al2O3和0.3％、1％Cr3+∶Al2O3薄膜，研究了在空氣條件下1100℃退火前后薄膜結(jié)構(gòu)和發(fā)光性能，并分析了不同的制備條件對(duì)薄膜發(fā)光性能的影響。實(shí)驗(yàn)表明，退火后薄膜缺陷和氧空位減少，當(dāng)靶襯間距為40mm時(shí)氧空位較少。0.3％摻雜的Cr3+∶A