高密度Si納米線的固-液-固生長及其光學(xué)性質(zhì).pdf_第1頁
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文檔簡介

1、以Al/Au合金薄膜作為催化劑，基于固—液—固（SLS）生長機制，在單晶Si(100)襯底上制備出直徑為100nm、長度可達到微米級、密度為1010/cm2，并且分布均勻的大面積Si納米線（SiNWs）。實驗研究了不同種類的催化劑、催化劑厚度、襯底形貌和生長時間等工藝條件對Si納米線以及Si納米線的光致發(fā)光（PL）特性和反射率的影響。利用X射線能量損失譜(EDS)、X射線衍射儀(XRD)、掃描電子顯微鏡（SEM）、F4600熒光光譜儀和

2、D8反射率測試儀等對Si納米線的形貌、組分、生長晶向、PL特性和反射率進行了測試和表征。結(jié)果表明，在生長溫度為1100℃，N2氣流量為1.5 L/min，生長時間為60min的條件下，采用Al/Au合金作為金屬催化劑，所制備的Si納米線的密度比 Au作為催化劑制備的 Si納米線的密度大二個數(shù)量級，達到了1010cm2。發(fā)現(xiàn)在355-390nm波長范圍存在一個較強的紫外發(fā)射峰，以及458-475nm處存在一個較弱的藍光發(fā)射峰，其峰值分別位

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