基于納米壓印技術的大面積高密度光柵的研制.pdf

1、20世紀末21世紀初,納米技術的迅猛發(fā)展將對社會各行業(yè)的科技進步及人類生活產(chǎn)生深遠影響,預計將帶來第五次技術革命。在這樣的大背景下,半導體制造行業(yè)又向著傳統(tǒng)光學光刻極限的方向發(fā)展,急需一種新型的高分辨率、高效率和低成本的光刻技術取而代之。納米壓印光刻技術作為下一代光刻技術中的熱門研究方法之一,就受到了人們的極大重視。
　　 另外,光柵作為一種光學器件,具有十分廣泛的應用,特別是在光譜學中的應用,對于過去的20世紀人類知識的發(fā)展積

2、累做出了舉足輕重的貢獻。然而,受制于微細加工技術能力,近年來高密度大面積衍射光柵的研制水平和應用水平一直受到極大限制。得益于納米壓印光刻技術的提出,我們將有能力制造高性價比、高分辨率、低成本、大面積的透射和反射光柵,具有重要意義。
　　 本文將通過納米壓印光刻技術研究制造大面積(10mm×10mm)高密度(5000線/mm)的透射和反射光柵?；谖覀冎霸赟U-8光刻膠上壓印的研究,我們打算開發(fā)一種利用納米壓印技術在紫外固化膠—

3、—SU-8上進行的新型簡單的制造工藝來研制光柵。由于SU-8在可見光波段有98％的透過率,十分適合用來進行制作光學器件。并且SU-8也具有較低的粘滯系數(shù),即有很好的流動性,也適合用來進行壓印研究。
　　 本文詳細研究了光柵模板(周期分別為1μm、500nm、300nm和200nm)的制造過程,通過優(yōu)化干法刻蝕參數(shù),制造出了具有平滑陡直側壁和較好截面的模板,高寬比達到或超過了3:1;通過研究壓印過程的工藝參數(shù),優(yōu)化了工藝條件,得到