NixMg1-xO薄膜的制備技術(shù)研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、在正常溫度下氧化鎳薄膜的帶隙處于3.6-4.0ev范圍內(nèi)，與氧化鋅薄膜的禁帶寬度相比，氧化鎳薄膜的更大一點，但終究還是不能實現(xiàn)日盲紫外探測，為了使氧化鎳薄膜的禁帶寬度增大，我們就要對氧化鎳薄膜進行合理的摻雜，使得氧化鎳薄膜的光譜響應位于日盲光譜范圍內(nèi)。因此，本論文通過采用磁控濺射的方法制備氧化鎳薄膜，然后選擇Mg元素，對氧化鎳薄膜進行摻雜，使其薄膜的光譜響應位于日盲光譜范圍內(nèi)。本論文我們主要研究的步驟如下:
　　(1)利用磁控濺射

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