圖案化介質(zhì)記錄性能的微磁學(xué)仿真研究.pdf

1、隨著記錄密度的不斷提高,傳統(tǒng)的磁記錄技術(shù)正在面臨因超順磁效應(yīng)等問(wèn)題而導(dǎo)致的記錄密度極限。為應(yīng)對(duì)超順磁極限,一種有效的方法就是使用圖案化磁介質(zhì)。通過(guò)將記錄位隔離開(kāi)來(lái),圖案化介質(zhì)不僅獲得了更高的熱穩(wěn)定性,而且減小了噪聲,被認(rèn)為是未來(lái)超高密度磁記錄技術(shù)的發(fā)展方向。
　　預(yù)刻蝕-沉積法被認(rèn)為是在工業(yè)生產(chǎn)中最有可能采用的制備圖案化介質(zhì)的方法,然而,由這種方法制備得到的介質(zhì)的記錄性能強(qiáng)烈地依賴(lài)于沉積條件——沉積物既沉積在磁島上,還會(huì)沉積在溝道

2、和側(cè)邊上,這極有可能會(huì)引入較大的介質(zhì)噪聲。首先建立了相應(yīng)的微磁學(xué)模型,計(jì)算并分析了磁島填充因子 IFF、磁島高度以及磁頭-介質(zhì)間距對(duì)介質(zhì)信噪比SNR的影響。指出了在IFF較小時(shí),溝道和側(cè)邊是噪聲的主要來(lái)源;在IFF較大時(shí),固有噪聲占據(jù)主導(dǎo)作用;IFF在0.5～0.8之間時(shí),介質(zhì)能夠獲得較高的SNR。磁島越高時(shí)SNR越高,當(dāng)磁島較低時(shí)加高磁島對(duì)SNR的提高尤為明顯,而當(dāng)磁島較高時(shí)對(duì)其進(jìn)一步提高所呈作用已不明顯。通過(guò)減小磁頭-介質(zhì)間距對(duì)SN