氯霉素分子印跡聚合物的制備及其應(yīng)用.pdf

1、本論文主要研究了氯霉素分子印跡聚合物的制備及其應(yīng)用，主要包括背景知識(shí)介紹，離子液體在氯霉素分子印跡中的應(yīng)用研究和多壁碳納米管為基體的氯霉素分子印跡的初步探索三部分。
　　 第一部分，主要介紹了氯霉素的概況，分子印跡技術(shù)、離子液體和納米材料-碳納米管的基本理論及其應(yīng)用。
　　 第二部分，以氯霉素(CAP)為模板，2-乙烯基吡啶(2-Vp)為功能單體，四氫呋喃和離子液體[BMIm]BF4(V/V=1/1)的混合液為反應(yīng)溶劑，

2、乙二醇二甲基丙烯酸酯(EGDMA)為交聯(lián)劑，偶氮二異丁腈(AIBN)為引發(fā)劑，采用傳統(tǒng)的本體聚合法合成了氯霉素的分子印跡及非印跡聚合物，制備的印跡聚合物與在單一溶劑四氫呋喃中制備的印跡聚合物相比，對(duì)目標(biāo)分子有較好的特異性選擇識(shí)別能力。印跡聚合物的重復(fù)利用率較高。同時(shí)，使用氯霉素印跡聚合物作為吸附材料，對(duì)雞蛋樣品中的氯霉素進(jìn)行選擇性富集，洗脫后測(cè)定，該方法回收率可達(dá)35.8％～73.2%，選擇性吸附效果明顯。
　　 第三部分，首先

3、在MWNTs表面包上硅層，然后以MWNTs@SiO2為載體，采用溶膠-凝膠的方法合成了對(duì)模板分子氯霉素具有識(shí)別功能的分子印跡聚合物。采用紅外、掃描電鏡和熱重分析技術(shù)對(duì)MWNTs，MWNTs@SiO2和MWNTs@SiO2-MIPs進(jìn)行表征，結(jié)果表明可以在MWNTs表面成功接枝上硅層及印跡聚合物層。該方法簡(jiǎn)單，合成的印跡聚合物對(duì)模板分子的印跡因子比較高，最高α能達(dá)到4.2，而且能夠快速達(dá)到吸附平衡。這種納米吸附材料有望在實(shí)際樣品中氯霉素含