寬帶低損耗聲表面波濾波器的研制.pdf

1、隨著移動(dòng)通訊的發(fā)展，通訊系統(tǒng)不斷升級(jí)換代，系統(tǒng)對(duì)信號(hào)帶寬和信噪比的要求越來越高，寬帶通訊系統(tǒng)逐漸成為主流，作為信號(hào)處理關(guān)鍵元器件—濾波器方面，寬帶低損耗濾波器的需求也越來越大。目前，國內(nèi)還沒有一家完全成熟掌握寬帶低損耗聲表面波濾波器（SAWF）技術(shù)，為擺脫對(duì)進(jìn)口元器件的依賴，發(fā)展這項(xiàng)技術(shù)勢在必行。本課題就是以美國 SAWTEK的寬帶低損耗聲表面波濾波器LB070DS26為目標(biāo)器件，通過設(shè)計(jì)和工藝制作，以制作出能完全取代該項(xiàng)目的器件，為發(fā)

2、展寬帶低損耗聲SAWF打下基礎(chǔ)。
　　本課題寬帶低損耗聲SAWF的設(shè)計(jì)中，為了獲得在同樣結(jié)構(gòu)下更大的帶寬和更低的損耗，通過傾斜指條換能器實(shí)現(xiàn)寬帶小體積濾波器，再加入SPUDT技術(shù)，以獲得更低的損耗，同時(shí)通過換能器的分節(jié)處理得到更好的矩形度和更好的帶外抑制。不同的加權(quán)技術(shù)和SPUDT技術(shù)相結(jié)合實(shí)現(xiàn)了高性能的寬帶低損耗聲表面波濾波器設(shè)計(jì)。
　　在工藝分析與選擇上，為了適合于更細(xì)的線條、保證指條陡直度、減少連指、選擇了剝離工藝進(jìn)行

3、制作。在曝光方式上為了實(shí)現(xiàn)高分辨率的圖形轉(zhuǎn)印，保證圖形之間的一致性，采用了分步重復(fù)曝光方法。為了有利于形成剝離工藝需要的在有光刻膠圖形的基片表面獲得不連續(xù)金屬膜和鎮(zhèn)對(duì)膜層精度要求較高，利用電子束進(jìn)行鍍膜，同時(shí)通過對(duì)點(diǎn)焊線布局的選擇減小了電極電阻，以有利于損耗的降低和通帶波紋的減小。對(duì)厚膜以及傾斜換能器存在的剝離困難，通過光刻膠的選擇、曝光顯影條件確定、獲得了滿足需求曝光顯影等過程條件，得到了較好微細(xì)圖形。對(duì)體波問題，也通過開槽方式得以解