電極表面化學(xué)修飾涂層的性能研究.pdf_第1頁(yè)
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1、　　本文研究了聚吡咯電化學(xué)聚合的適宜電位及所得聚吡咯的表面性質(zhì)，并采用兩種不同方法制備具有特殊形貌的聚吡咯膜。文章采用線性掃描伏安法(LSV)于相同條件下制備導(dǎo)電聚吡咯化學(xué)修飾電極，分析其曲線特性，確定最佳聚合電位為0.6V～1.0V；研究不同的摻雜劑、聚合時(shí)間、聚合電位、單體濃度及摻雜劑濃度對(duì)所制備的導(dǎo)電聚吡咯修飾電極表面接觸角的影響，得出聚合時(shí)間為5min、聚合電位0.7V、單體濃度0.4mol/L、摻雜劑濃度0.5mol/L時(shí)制備

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