2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
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文檔簡介

1、PPCPs 類污染物是近年來在環(huán)保領域引起普遍關注的新型污染物,本文以PPCPs 污染物為研究對象,通過建立電化學分析方法用于它們的降解監(jiān)測研究。
   本文首先采用UV/H2O2 光催化法研究了4-氨基安替比林(4-AAP)的降解過程。建立了基于碳納米管(CNTs)修飾電極的電化學測定方法并用其對降解過程進行監(jiān)測。研究了4-AAP在CNTs 修飾電極上的電化學行為以及支持電解質、富集時間等對峰電流的影響。在最佳條件下,4-AA

2、P的氧化峰電流與濃度在5.0×10-5-2.0×10-3 mol/L 范圍內呈良好線性關系,其回歸方程為Ip (μA)=15.206+207.7c (mmol/L),相關系數為0.9984,檢出限(S/N=3)為2.6×10-5mol/L。根據以上電化學分析方法,考察了4-AAP的UV/H2O2的降解過程中H2O2 投加量以及pH 對降解速度的影響。
   采用UV/Fenton 技術對安替比林(AP)進行光催化降解,建立了AP

3、在CNTs 修飾電極上的電分析方法并對降解過程進行監(jiān)測。研究了AP在CNTs 修飾電極上的電化學行為,考察了支持電解質、富集時間、掃速等對峰電流和峰電位的影響,電極反應為吸附控制過程。采用循環(huán)伏安法時,AP的氧化峰電流與濃度在1.0×10-4-2.0×10-3mol/L 范圍內呈良好線性關系;采用差示脈沖伏安時,AP 氧化峰電流與濃度在8.0×10-6-2.0×10-4 mol/L 范圍內呈良好線性關系。然后用UV/Fenton 技術對

4、AP 進行光催化降解,并用上述循環(huán)伏安法監(jiān)測降解過程,分析了H2O2 用量、Fe2+用量和pH 對AP 降解速率的影響。
   制備了一種新型的外磁場固定磁載納米材料修飾電極并將其應用于光電催化降解雙氯芬酸鈉。首先以共沉淀法、溶膠-凝膠法合成了TiO2/SiO2/Fe3O4(TSF)納米材料,采用X 射線衍射儀、透射電子顯微鏡和傅里葉紅外光譜儀對材料進行表征。
   然后用外磁鐵將TSF納米顆粒固定在石墨電極上,制備了磁

5、載TSF 修飾電極,并測試了該電極的光電催化活性。用CNTs 修飾電極建立了雙氯芬酸鈉的電化學分析方法,并研究了不同條件對雙氯芬酸鈉峰電流的影響,在最佳條件下,雙氯芬酸鈉的氧化峰電流與濃度在1.0×10-6~1.0×10-4mol/L 濃度范圍內呈良好的線性關系,其線性回歸方程為Ip (μA)=1.479+138.6c (mmol/L),相關系數為0.9963,檢出限(S/N=3)為1.8×10-7mol/L。對雙氯芬酸鈉進行紫外光降解

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