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1、本文采用化學(xué)分析、XRD分析、SEM分析等方法研究了玻璃窯碹頂用硅磚殘磚各段帶的化學(xué)成分變化及相組成變化,探討了玻璃窯碹頂用硅磚的損毀機(jī)理,并在此基礎(chǔ)上研制了新一代玻璃窯碹頂用優(yōu)質(zhì)致密硅磚。研究表明,玻璃窯碹頂用硅磚在使用后.在熱面到冷面的方法上出現(xiàn)了不同段帶,其化學(xué)成分各不相同。與原磚比較,用后磚出現(xiàn)了化學(xué)組成重新分布的現(xiàn)象,分析認(rèn)為溫度梯度是形成此現(xiàn)象的主要原因。在溫度梯度作用下,不同碹頂部位和不同段帶的堿蒸汽濃度不一樣,各種堿蒸汽
2、的蒸汽壓存在差異以及它們的擴(kuò)散速率不同,因而出現(xiàn)化學(xué)組成重新分布。玻璃熔窯碹項(xiàng)硅磚的工作面蝕損及內(nèi)部熔洞的形成則是碹頂硅磚損毀的主要方式?;瘜W(xué)成分的重新分布及窯內(nèi)溫度梯度的存在,引起硅磚的鱗石英在使用過(guò)程中的相變.是對(duì)上述過(guò)程的促進(jìn)。 所研制的優(yōu)質(zhì)高純硅磚SiO2的含量大于96%,熔融指數(shù)(Al2O3+2R2O)小于0.5%,F(xiàn)e2O3含量小于0.5%,常溫耐壓強(qiáng)度65MPa,0.2MPa下的荷重軟化溫度為1690℃,耐火度高于
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