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1、當(dāng)集成電路生產(chǎn)工藝節(jié)點(diǎn)進(jìn)入50nm以下,傳統(tǒng)浮柵結(jié)構(gòu)的編程擦除速度和數(shù)據(jù)保持能力已經(jīng)無(wú)法同時(shí)滿足非揮發(fā)存儲(chǔ)應(yīng)用的要求。金屬納米晶存儲(chǔ)器具有更高的速度和更好的可靠性,它將成為一種下一代浮柵結(jié)構(gòu)非易失存儲(chǔ)器件的有力替代者。因此有必要全面研究影響金屬納米晶非揮發(fā)存儲(chǔ)器存儲(chǔ)特性的因素。本文的研究為金屬納米晶存儲(chǔ)器代替?zhèn)鹘y(tǒng)浮柵結(jié)構(gòu)完善了理論依據(jù)。 本文從金屬浮柵結(jié)構(gòu)電容模型計(jì)算、TCAD軟件仿真和數(shù)據(jù)保持能力建模三方面對(duì)金屬納米晶存儲(chǔ)器存
2、儲(chǔ)特性進(jìn)行了研究。首先,從器件的電容模型出發(fā),分析了影響器件編程擦除速度的因素。其次,利用TCAD軟件SILVACO/ATLAS仿真金屬納米晶存儲(chǔ)器件編程擦除特性。最后,在綜合考慮量子限制和庫(kù)倫阻塞兩種效應(yīng)的基礎(chǔ)上,建立并驗(yàn)證了金屬納米晶數(shù)據(jù)保持能力的數(shù)學(xué)分析模型。 研究結(jié)果表明: (1)增大浮柵功函數(shù)對(duì)不影響器件的編程速度,會(huì)減小器件的擦除速度,提高器件的數(shù)據(jù)保持能力。 (2)增大控制柵功函數(shù)會(huì)減小器件的編程速度,
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