基于微機(jī)械工藝的電磁型平面微電機(jī)的研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、論文針對(duì)納衛(wèi)星(重量低于10公斤)和皮衛(wèi)星(重量低于1公斤)中飛輪姿態(tài)控制、執(zhí)行元件對(duì)微電機(jī)輸出力矩、角動(dòng)量、體積、重量和使用壽命等的需求，提出了基于體硅微機(jī)械加工工藝的單定子—雙轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)平面電磁微電機(jī)的設(shè)計(jì)思想。較深入地研究了以LIGA工藝、硅深刻蝕工藝為主的平面繞阻的高深寬比、批量化制作方法。在厚膠光刻工藝中重點(diǎn)解決了膠膜厚度的均勻性、膠膜與襯底的粘附性、大厚度差膠層的曝光、顯影條件等的優(yōu)化問題。在電鑄工藝中，摸索出獲得顆粒均勻、致

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